光学薄膜镀膜机

镀膜背景知识

1、 光线垂直入射示意图及反射率计算公式：

比如真空内(na=1.0)光线垂直入射在镀有单层MgF2( nf=1.3836)的K9玻璃(ns=1.5168)上,可以求出,这时的反射率大概在1.34%左右

(

也就是说透过率在98.6%左右);当然,实际镀膜情况比上式复杂的多,通过多层镀膜,我们可以得到需要的反射率(或透射率).

2、光线倾斜入射示意图：

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3、镀膜类型及属性： 反射膜

类型 紫外增强铝膜

波长（nm）

反射率

抗磨损能力中等

价格低

属性

通过氟化镁膜增强紫外反射率

通过SiO膜增强可见光反射率

多层介质膜增强可见和近红外反射率

可见和红外反射能力强于铝膜

近红外到红外反射能力略强于保护银膜

在带宽范围有非常高的反射率

在窄带范围有非常高的反射率

对于准分子激光有高反射率和高损伤阈值 对于Nd:YAG激光有高反射率和高损伤阈值

avg >90%

保护铝膜

avg >88% 中等 低

金属膜

增强铝膜

avg >93% 中等 低

保护银膜

0.48–20μavg >96% 中等 低

保护金膜

0.65–20μavg

镀膜背景知识

1、 光线垂直入射示意图及反射率计算公式：

比如真空内(na=1.0)光线垂直入射在镀有单层MgF2( nf=1.3836)的K9玻璃(ns=1.5168)上,可以求出,这时的反射率大概在1.34%左右

(

也就是说透过率在98.6%左右);当然,实际镀膜情况比上式复杂的多,通过多层镀膜,我们可以得到需要的反射率(或透射率).

2、光线倾斜入射示意图：

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3、镀膜类型及属性： 反射膜

类型 紫外增强铝膜

波长（nm）

反射率

抗磨损能力中等

价格低

属性

通过氟化镁膜增强紫外反射率

通过SiO膜增强可见光反射率

多层介质膜增强可见和近红外反射率

可见和红外反射能力强于铝膜

近红外到红外反射能力略强于保护银膜

在带宽范围有非常高的反射率

在窄带范围有非常高的反射率

对于准分子激光有高反射率和高损伤阈值 对于Nd:YAG激光有高反射率和高损伤阈值

avg >90%

保护铝膜

avg >88% 中等 低

金属膜

增强铝膜

avg >93% 中等 低

保护银膜

0.48–20μavg >96% 中等 低

保护金膜

0.65–20μavg

使用增透膜时注意要求 1、使用的波长或者波段

2、光线入射角度或角度范围 3、对剩余反射率的要求

4、使用环境的要求（比如高低温、酸碱性） 5、激光领域，对激光阀值要求

入射角度与反射率的关系：入射角度增加、反射率增大。

玻璃增透膜的成膜材料有MgF2 SiO2 TiO2 ITO 膜层设计时，首先要注意的是膜层中不同膜材的膨胀系数，因为相差太大在后续加工处理中将引起牢固度差、龟裂和脱膜的现象。

不同工艺生产的增透膜（玻璃）硬度性能对比

溶胶凝胶法 真空溅射法 真空蒸镀法

穿透率 98% 98% 98% 反射率 2%以内 2%以内 2%以内 玻璃颜色 淡红 深红 深红 强度

表面硬度 7H~29H 7H以上 5H以上 耐擦洗性 500次以上膜层无影响 差 最差 膜层均匀性 好 差 最差

使用反射膜时注意要求 金属膜材料的选择原则： 1、先考虑使用波段 2、反射率要求 3、使用环境 4、制作成本

5、常用有

备注:

1 机台镀膜时间明细:分钟

2 人员作业时间明细:分钟

3 机台保养

加热: 下伞

:

1排气:

取挡板及遮药板0熔药镀膜:

清洁机台: 1.5离子源冷却:更换药材: 1.5基板冷却: 安装挡板及遮药0进气:

上伞:

1

制造三课

造三课4#镀膜机负荷评估

3 机台保养时间明细:分钟

水晶和监控片更换:

离子源及中和器更换:

机台清洗:1次/4天需3H

清洗后排气加热,镀保护膜:1次/4天需1.5H

月度所需时间

1350膜:1次/4天需1.5H675

合计2025

光谱检测

常规光谱（透、反射率）

非常规测量（超高反射、大口径光学常数拟合

椭偏法

受抑全内反射方法

光谱法

波导法

阿贝法

联合测试

分光光度计

测试波段：紫外－可见－近红外、红外

最常用：单色仪型分光光度计

傅里叶红外光谱仪（基于干涉原理）迈克尔逊干涉仪

特殊要求：如大口径；带角度反射率测试等

干涉图是光谱的傅里叶变换

对其进行傅里叶逆变换即恢复成光谱

单光路双光路

光路校准

测量

反射率测量

简单方便

关键：找到满足测量要

适于低反射率测量

反射率测量

绝对反射率测量

V-W型

适用于高反射率测量

可通过增加反射次数

提高测量精度

更高测量精度则需采

用激光谐振腔

（Cavity Ring Down）

10

V-N

11

波长范围、稳定性

狭缝的大小影响波长的分辨率

影响测量精度

形成部分偏振光以及非平行光影响测量精度

噪声

实际测量光斑、小孔光阑的运用

入射光位置偏移带来测

如果测自然光的倾斜入

加光路补偿镜

探测器用积分球

16

加消偏器

加起偏器

T=(Tp+Ts)/2

标准分光光度计可直接配置起偏晶体获得宽光谱范围内的偏振特性

缺点：精度不高、起偏晶体价格昂贵

消光比更高、测量精度高

没有角度、固定位置的调节难度

缺点：单一波长（或带宽很窄）

超高反射测量

激光谐振腔衰减法

Cavity Ring-Down

测试依据

激光谐振腔全反射镜的反射

光学薄膜市场调研报告 关键词：调研报告,市场,光学薄膜

光学薄膜市场调研报告 介绍：光学薄膜是一类重要的光学元件，它广泛地应用于现代光学、光电子学、光学工程以及其他相关的科学技术领域。在光的传输、调制，光谱和能量的分各与合成以及光与其他能态的转换过程中起着不可替代的作用。下面是小编整理的光学薄膜市场调研报告，欢迎来参考！　　1光学薄膜的制备技术　　1.1物理气相学沉积（PVD）　　

光学薄膜市场调研报告 详情：

[免费论文：www.lwlwlw.com]

　　光学薄膜是一类重要的光学元件，它广泛地应用于现代光学、光电子学、光学工程以及其他相关的科学技术领域。在光的传输、调制，光谱和能量的分各与合成以及光与其他能态的转换过程中起着不可替代的作用。下面是小编整理的光学薄膜市场调研报告，欢迎来参考！

　　1光学薄膜的制备技术

　　1.1物理气相学沉积（PVD）

　　1）热蒸发

　　光学薄膜器件主要采用真空环境下的热蒸发方法制造，此方法简单、经济、操作方便。尽管光学薄膜制备技术得到长足发展，但是真空热蒸发依然是最主要的沉积手段，当然热蒸发技术本身也随着科学技术的发展与时俱进。

　　2）溅射

　　溅射指用高速正离子轰击膜料（靶）表面，通过动量传递，使其分子或原子获得

《光学薄膜技术》课程简介

《光学薄膜技术》作为光学专业的技术专业课,系统地介绍薄膜光学的基本理论和器件设计的基本方法,介绍光学薄膜的新设计方法、新器件设计、新工艺技术、制造工艺,介绍光学薄膜的相关材料及其性质,介绍光学薄膜的特性测试方法等。

本《光学薄膜技术》课程将讲授六章,第一章是薄膜光学特性计算基础,第二章介绍介质膜系及其应用,第三章介绍薄膜制造技术,第四章介绍光学薄膜制造工艺,第五章介绍薄膜材料及其性质,第六章介绍光学薄膜特性测试与分析。

课程目录

第一章薄膜光学特性计算基础 1.1 单一界面的反射率和透射率 1.2 单层介质膜的反射率 1.3 多层介质膜的反射率和透射率 1.4 金属薄膜的光学特性 1.5 光学零件的反射率和透射率 第二章介质膜系及其应用 2.1 减反射膜 2.2 高反射膜 2.3 中性分束膜 2.4 截止滤光片

2.5 带通滤光片 2.6 偏振分束膜 2.7 消偏振膜系 第三章薄膜制造技术 3.1 光学真空镀膜机 3.2 真空与物理汽相沉积 3.3 真空获得与检测 3.4 热蒸发 3.5 溅射 3.6 离子镀 3.7 离子辅助镀

第四章光学薄膜制造工艺 4.1 光学薄膜器件的质量要素 4.2 影响膜层质量的工艺要素

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

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OPTORUN离子源的维护保养说明

1．离子源的维护和Grid的分解和组装方法

长时间运转後，石英杯内会被镀上一层的导电性膜，因此会引起输出功率下降，此时请进行打砂处理或使用洗净液（请使用不影响SiO2的洗净液）等除去膜层。

石英杯的清扫周期通常是50~100小时。（根据使用状况更改维护的周期）。

注意：请注意石英杯很容易损坏。 在对石英杯进行打砂时，请使用粒度＃100的Al粒子，并保持0.1～0.2M

Ｐａ的低压力，离石英杯30cm以上进行打砂作业。

1．1 绝缘子的清洁

长时间使用后，Grid Assy部分的绝缘子会被镀上一层的导电性膜，此会引起Grid的短路，不能正常发挥作用。并会出现ACC电流值过大或Beam电流上不去的现象，此时需清洁或交换绝缘子。由于绝缘子的清洁难度很大，建议您交换新品。

注意：确认各Grid间，2000Vdc时须20MΩ以上。 ①

② 维护和交换时期

各Grid间绝缘子的状态呈恶化趋势时，用打砂纸清洁其外表部。

Grid维护周期为每50~100小时确认其外观?绝缘，如有异常请及时清扫或交换。如厚度有磨损，其磨损厚度为-0.02mm时，请交换新品。 （例如：t=1.0mm的绝缘子当变为t=0