PECVD工艺参数

PECVD工艺

7.1 CVD工序的目的

7.2 CVD工艺的基本原理

7.3 CVD的设备构成和主要性能指标

7.4 CVD 工序的主要工艺参数和工艺质量评价 7.5特种气体供应管理系统

7.1 CVD工序的目的

7.1.1 CVD目的

在一定压强、温度条件下输入高频电压使气体源电离形成等离子体，在基板表面发生气相化学反应，生长出各种功能薄膜。

A(g) + B(g) energy C(s) + 副产物 7.1.1.1 CVD film介绍

Film G-SiNX（GH&GL） a-Si（AH&AL） na-Si（NP） P-SiNX（PV）

＋Gas SiH4+NH3+H2 SiH4+H2 SiH4+PH3+H2 SiH4+NH3+H2

7.1.1.2各层薄膜的功能

1. G: Gate SiNx （绝缘层） 作用：防止M1与I层导通

2. a-Si （半导体） 作用：导通层，电子在该层产生

3. N: N+ a-Si （掺杂半导体）

作用：降低界面电位差，降低I层与M2之间的电位差 4. Passivation

设备工艺调试（扩散 ＰＥ）

扩散调试（针对喷淋、串级控制、压力补偿设备）

工艺调试前的准备工作

１ 压力补偿功能是否正常运行 压力平衡系统调试

压力平衡主要由压力传感器、压力控制器、流量计组成。 压力传感器调试

压力传感器有两个气体压力检测口

一个与大气相通<1>一个与反应管相通<2><1>直接空开、<2>通过PFA管与热偶管相连。 注意不要将两个接口接反，检验方法：可以用口对准其中一个吹气可以发现控制器检测值增大否则可能接反了。 2 流量计调试

同时按“ENT”和“?”进入参数设定模式。（3秒以上） C03 值选为1

流量计出气口要接到石英连接器上，即补气口（将原来排废管上的补气口堵上）。 3 压力控制器

常按“set”ATU设为1时自整定，在设备连接好时进行补气时，将该值设定成1进行自整定（类似温度控制PID整定）

OLH为限幅输出，一般设定为20%，（即在补气时流量计瞬时值不要超过10L/min） 如果压力控制器变化太快可以将延时设置成五（DF）

在STOP模式下边按SET边按R/S键4秒以上，进行工程技术模式： F00 MODE=128

F21 INP=35 PGDp=0 PGSH=1000 SLH=1000 F60 CMP

赛维LDK太阳能高科技（合肥）有限公司 文件编号 文件名称 管式PECVD工艺流程 生效日期 页码 第1 页 共6 页 一、目的

制定管式PECVD工序工艺流程规范，作为工艺人员工作依据，保证镀膜质量。 二、适用范围

管式PECVD工序所有工艺人员。 三、工艺人员职责

3.1 负责管式PECVD工序生产工艺运行的正常性、稳定性。

3.2负责部门内工艺运行原始资料的累积，保管，随时检查工艺运行状态，并记录异常，积极处理工艺 异常。

3.3 负责应对管式PECVD设备常见、突出、重大的工艺异常，制定落实整改措施、预防措施、应急方案。 四、名词定义

4.1 PECVD：即等离子增强化学气相沉积，在外加能量的作用下，NH3、SiH4发生电离，反应后在硅片表面生成SiN薄膜。

4.2 管式PECVD：区别于板式PECVD，镀膜过程中，硅片插在石墨舟中，由SiC桨送入石英炉管内进行镀膜，因此称为管式PECVD。此种镀膜方式中，石墨舟及硅片是作为电极的一部分参与镀膜，在外加高频电源的作用下，石墨舟片之间形成电场，将通入的SiH4和NH3电离，在硅片表面反应生成SiN膜。 五、工作内容

5.1 PECVD工序产品检验点

5.1.1 镀膜后过程

半导体材料结课论文——PECVD技术浅论

PECVD——等离子体增强化学气相沉积法浅论

半导体材料学中，硅材料可谓材料之王，而硅材料的一项重要应用就是制作单晶硅太阳能电池。在单晶硅太阳能太阳能电池制造中，最重要的工艺之一是在太阳能电池的表面沉积上一层减反射膜。以达到减反射和钝化作用。相比较在低温条件下沉积SiNx薄膜的PECVD工艺，是沉积这层减反射膜的最佳工艺方法，这样能起到表面钝化还有体内钝化以及减反射的效果。

PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）技术原理利用低温等离子体做能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。

在研究PECVD之前要先了解CVD技术，CVD核心是一种利用化学反应方式,将反应物(气体)生成固态的产物,并沉积在基片表面的薄膜沉积技术。如可生成：导体，W(钨)等;半导体，Poly-Si(多晶硅), 非晶硅等;绝缘体(介电材质)，SiO2, Si3N4等.

而为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这

PECVD

一：PECVD的应用：

PECVD主要用于进行电介质薄膜的沉积, 在芯片生产过程中,金属薄膜之间, 电容等作为导电薄膜之间的隔离作用.如下图, ILD; IMD以及PASSVATION层SiO2 以及SiN薄膜都是运用到了PECVD.

可以用到PECVD 制成的薄膜有如下：

SiH4+N2O plasma SiOx(Hy) + other volatiles (200~400C)

SiH4+N2+NH3 plasma SiNx(Hy) + other volatiles (400C)

SiH4+N2O+NH3+N2 plasma SiOxNy(Hz) + other volatiles (400C)

SiH4+N2O+He plasma SiOxNy(Hz) + other volatiles (400C)

二：PECVD的原理：

CVD： 化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程

毕业设计论文

WAT工艺参数测试

系 电子信息工程系 专业 微电子技术 姓名 钦 班级 微电 学号 1003320 指导教师 席 职称 讲师 设计时间 201.9.19－.1.4

摘要:

。要晶圆的工艺参数测试方法。主要介绍以下几个方面的内容 ：参数测试在现在集成电路产业中的重要性；晶圆可靠性参数测试的相关知识的介绍；测试参数的介绍；以及测试所需的软件和硬件的介绍；系统的并详细的说明了在测试过程中会遇到哪些问题，以及在测试过程中操作者经常会犯得错误。错误的种类等，以及相关工程师如：工艺工程师；（负责相关产品的测试程序编写）设备工程师(负责测试机台的检测与维修）相关问题本文将做进一步解释。

关键词：可靠性； 监测系统；晶圆测试；

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江苏信息职业技术学院毕业设计（论文）

目录

摘要: ...........................................................................

喷漆室漆雾洗涤塔工艺参数计算

喷漆是工业产品表面涂装一种有效且常见的办法，尽管水帘喷漆室受结构的限制其漆雾处理效果不是十分理想，但其结构简单、占地空间小、投资成本低等优点使得，水帘喷漆室应用十分广泛。随着社会的进步，社会对环保要求的越来越严格，尤其是工业生产中的废气、废液的排放。水帘喷漆室的排出废气处理就显得尤为重要。

漆雾洗涤塔的工作原理：参考借鉴水旋喷漆室的原理，将水帘喷漆室处理过后的废气用排风风机抽出后将废气送入洗涤塔内部，在塔的中间设置若干水旋器以及淌水板，废气通过洗涤塔后的排风风机将废气从水旋器上部通过水旋器后排出。水旋器内部水与废气充分接触并在高风速的状态下雾化，吸收废气中的漆雾然后经过后续的档水板以及风速的急剧降低使得雾化的水气撞击聚合，重新凝聚成水滴落入洗涤塔底部的循环水池中。

洗涤塔主要结构形式：本塔为矩形整体，由淌水板将塔分为上下两部分，塔上部为进风室，中间为淌水板以及水旋器，底部为循环水池。循环水池与淌水板中间开孔接排风风管，供处理过后的废气排放。排风风管内部设置气水分离的档水板。由水泵将底部水槽内水抽出，送入上部空间沿淌水板流至水旋器。

工艺参数的计算：

初始条件：洗涤塔废气处理量：13300m3/h即送风风量为133

注塑工艺参数五要素

　　注塑压力

　　注塑压力是由注塑系统的液压系统提供的。

　　液压缸的压力通过注塑机螺杆传递到塑料熔体上，塑料熔体在压力的推动下，经注塑机的喷嘴进入模具的竖流道(对于部分模具来说也是主流道)、主流道、分流道，并经浇口进入模具型腔，这个过程即为注塑过程，或者称之为填充过程。

　　压力的存在是为了克服熔体流动过程中的阻力，或者反过来说，流动过程中存在的阻力需要注塑机的压力来抵消，以保证填充过程顺利进行。

　　在注塑过程中，注塑机喷嘴处的压力最高，以克服熔体全程中的流动阻力。其后，压力沿着流动长度往熔体最前端波前处逐步降低，如果模腔内部排气良好，则熔体前端最后的压力就是大气压。

　　影响熔体填充压力的因素很多，

　　概括起来有3类：(1)材料因素，如塑料的类型、粘度等;(2)结构性因素，如浇注系统的类型、数目和位置，模具的型腔形状以及制品的厚度等;(3)成型的工艺要素。

　　注塑时间

　　这里所说的注塑时间是指塑料熔体充满型腔所需要的时间，不包括模具开、合等辅助时间。

　　尽管注塑时间很短，对于成型周期的影响也很小，但是注塑时间的调整对于浇口、流道和型腔的压力控制有着很大作用。合理的注塑时间有助于熔体理想填充，而且对于提高制品的表面质量以及减小尺寸

浅述冷/热模注塑成型技术

所谓的“冷/热模注塑成型” 技术，是一种可在注塑成型周期内，使模腔表面温度实现冷热循环的工艺。其特点是：在注射前，先加热模腔，使其表面温度达到加工材料的玻璃化转变温度（Tg）以上；当模腔填满后，迅速冷却模具，以使制件在脱模前完全冷却。

这种冷/热模注塑成型工艺可以大幅度地改善注塑制品的外观质量，而且可以省去某些二次加工（如旨在掩盖表面缺陷的底漆和磨砂处理）过程，从而降低整体生产成本。在某些情况下，甚至还可以省去上漆或粉末涂布工艺。在那些对表面光泽度有较高要求的应用中，冷/热模注塑成型工艺还允许使用玻纤增强材料。该工艺的其他优势还包括：降低注塑内应力、减少甚至消除喷射痕和可见的熔接线，以及增强树脂的流动性，从而生产出薄壁产品等。

通常情况下，冷/热模注塑成型工艺适用于所有的传统注塑机。但是，如果希望模具表面得到快速加热或冷却，还需要配合使用特定的辅助系统，目前常用的辅助系统是高温热水系统和高温蒸汽系统。这些辅助系统中的蒸汽，要么来自外部锅炉，要么由其自身的控制设备产生。早在几年前，沙伯基础创新塑料就开始在日本研究冷/热模注塑成型技术。目前，该公司在其亚太区

5 轧制工艺参数设计

轧制工艺参数设计主要包括压下制度、速度制度、温度制度。我们知道轧制工艺参数是中厚板生产的核心部分，直接关系着轧机的产量和产品的质量。轧制工艺参数设计的主要内容就是要由所需的产品选出合适的坯料，确定由这一坯料轧制成成品总共需要多少道次、每道次的压下量等内容，具体到操作上就是要计算出每道次压下螺丝的升降位置。同时，为了轧制出合格的产品，还要确定轧制的开轧温度、终轧温度，各道次的轧制速度分配等。另外，还应包括轧辊的辊型制度。这样才能在生产中制定出合理的轧制制度，达到既产量和质量，又实现操作方便、设备安全等目的。本设计的产品是ss400，42×2850×9000mm厚板轧制工艺参数设计。

5.1 坯料的选择

选择坯料是中厚钢板生产中的重要环节之一。坯料选择是否合理，将影响轧机的生产率、成材率、钢板质量及成本，应予重视。 5.1.1 原料的种类

如前所述，所以本设计选择连铸坯作为原料。 5.1.2 原料的尺寸

本次设计原料的厚度选择260 mm。原料的宽度尺寸尽量大，考虑到展宽比1.4和实际情况，使横轧操作容易，由常用规格，原料宽度选择2030mm。切边100mm，切头尾400mm。原料的长度尺寸应尽可能接近原料的最大允许长度。根