半导体wb技术员总结

第一章

2、列出20世纪上半叶对半导体产业发展做出贡献的4种不同产业。P2 答：真空管电子学、无线电通信、机械制表机及固体物理。 3、什么时间、什么地点、由谁发明了固体晶体管？P3

答：1947年12月16日在贝尔电话实验室由威廉·肖克利、约翰·巴丁和沃尔特·布拉顿发明了固体晶体管。

5、列出5个集成时代，指出每个时代的时间段，并给出每个时代每个芯片上的元件数。P4 6、什么是硅片？什么是衬底？什么是芯片？

答：芯片也称为管芯（单数和复数芯片或集成电路），硅圆片通常被称为衬底 8、列出集成电路制造的5个重要步骤，简要描述每个步骤。P4

10、列出提高微芯片制造技术相关的三个重要趋势，简要描述每个趋势。P8 11、什么是芯片的关键尺寸？这种尺寸为何重要？P9

13、什么是摩尔定律？它预测了什么？这个定律正确吗？P10

14、自1947年以来靠什么因素使芯片价格降低？给出这种变化的两个原因。 16、描述硅片技师和设备技师的职责。P16

第三章

11.解释pn结反偏时发生的情况。P45

答：导致通过二极管的电流很小，甚至没有电流。

12.解释pn结正偏时发生的情况。P45

答：将一正偏施加于pn结，电路中n区电子从偏压电源负极被排斥。多余的电子从负

第一章

2、列出20世纪上半叶对半导体产业发展做出贡献的4种不同产业。P2

答：真空管电子学、无线电通信、机械制表机及固体物理。

3、什么时间、什么地点、由谁发明了固体晶体管？P3 答：1947年12月16日在贝尔电话实验室由威廉·肖克利、约翰·巴丁和沃尔特·布拉顿发明了固体晶体管。5、列出5个集成时代，指出每个时代的时间段，并给出每个时代每个芯片上的元件数。P4

6、什么是硅片？什么是衬底？什么是芯片？

答：芯片也称为管芯（单数和复数芯片或集成电路），硅圆片通常被称为衬底

8、列出集成电路制造的5个重要步骤，简要描述每个步骤。P4

10、列出提高微芯片制造技术相关的三个重要趋势，简要描述每个趋势。P8

11、什么是芯片的关键尺寸？这种尺寸为何重要？P9 13、什么是摩尔定律？它预测了什么？这个定律正确吗？P10

14、自1947年以来靠什么因素使芯片价格降低？给出这种变化的两个原因。

16、描述硅片技师和设备技师的职责。P16

第三章

11.解释pn结反偏时发生的情况。P45

答：导致通过二极管的电流很小，甚至没有电流。

12.解释pn结正偏时发生的情况。P45

答：将一正偏施加于pn结，电路中n区电子从偏压电源负极被排斥。多余的电子从负极注入到充满空穴的p区，使n区中

簡介

在積體電路製造過程中，常需要在晶圓上定義出極細微尺寸的圖案(Pattern)，這些圖案主要的形成方式，乃是藉由蝕刻(Etching)技術，將微影

(Micro-lithography)後所產生的光阻圖案忠實地轉印至光阻下的材質上，以形成積體電路的複雜架構。因此蝕刻技術在半導體製造過程中佔有極重要的地位。 廣義而言，所謂的蝕刻技術，包含了將材質整面均勻移除及圖案選擇性部份去除的技術。而其中大略可分為濕式蝕刻(Wet Etching)與乾式蝕刻(Dry Etching)兩種技術。

早期半導體製程中所採用的蝕刻方式為濕式蝕刻，即利用特定的化學溶液將待蝕刻薄膜未被光阻覆蓋的部分分解，並轉成可溶於此溶液的化合物後加以排除，而達到蝕刻的目的。濕式蝕刻的進行主要是藉由溶液與待蝕刻材質間的化學反應，因此可藉由調配與選取適當的化學溶液，得到所需的蝕刻速率(Etching Rate)，以及待蝕刻材料與光阻及下層材質良好的蝕刻選擇比(Selectivity)。 然而，隨著積體電路中的元件尺寸越做越小，由於化學反應沒有方向性，因而濕式蝕刻是等向性(Isotropic)的，此時，當蝕刻溶液做縱向蝕刻時，側向的蝕刻將同時發生，進而造成底切(Undercut)現象，

簡介

在積體電路製造過程中，常需要在晶圓上定義出極細微尺寸的圖案(Pattern)，這些圖案主要的形成方式，乃是藉由蝕刻(Etching)技術，將微影

(Micro-lithography)後所產生的光阻圖案忠實地轉印至光阻下的材質上，以形成積體電路的複雜架構。因此蝕刻技術在半導體製造過程中佔有極重要的地位。 廣義而言，所謂的蝕刻技術，包含了將材質整面均勻移除及圖案選擇性部份去除的技術。而其中大略可分為濕式蝕刻(Wet Etching)與乾式蝕刻(Dry Etching)兩種技術。

早期半導體製程中所採用的蝕刻方式為濕式蝕刻，即利用特定的化學溶液將待蝕刻薄膜未被光阻覆蓋的部分分解，並轉成可溶於此溶液的化合物後加以排除，而達到蝕刻的目的。濕式蝕刻的進行主要是藉由溶液與待蝕刻材質間的化學反應，因此可藉由調配與選取適當的化學溶液，得到所需的蝕刻速率(Etching Rate)，以及待蝕刻材料與光阻及下層材質良好的蝕刻選擇比(Selectivity)。 然而，隨著積體電路中的元件尺寸越做越小，由於化學反應沒有方向性，因而濕式蝕刻是等向性(Isotropic)的，此時，當蝕刻溶液做縱向蝕刻時，側向的蝕刻將同時發生，進而造成底切(Undercut)現象，

半导体制造技术实践总结报告

姓 名： 学 号： 学 科： 学 院： 导 师 姓 名： 指 导 教 师：

2014 年 春季 学期

一、实践目的

通过生产实习学习半导体器件与集成电路相关制造工艺原理，掌握半导体工艺设备的结构原理、操作方法和半导体制造工艺技术以及工艺过程测试与分析方法，并学以致用、理论联系实际，巩固和理解所学的理论知识。同时了解半导体器件和集成电路的新工艺和新技术，积累实践知识，拓宽专业知识面，为器件和集成电路的设计与制造奠定基础。另外，培养在实际生产过程中发现问题、分析问题、解决问题和独立工作的能力，增强综合实践能力，建立劳动观念、实践观念和创新意识，树立实事求是、严肃认真的科学态度，提高综合素质。同时生产实践也是了解本专业发展现状、把握科技前沿脉搏和半导体相关专业

半导体物理 一、什么是半导体 导体

绪 论

绝缘体

半导体

电导率ρ <10?3 10?3~109 ?109 ??cm 此外，半导体还有以下重要特性

1、 温度可以显著改变半导体导电能力

例如：纯硅（Si） 若温度从30?C变为20?C时，ρ增大一倍 2、 微量杂质含量可以显著改变半导体导电能力

例如：若有100万硅掺入1个杂质（P . Be）此时纯度99.9999% ，室温（27?C 300K）时，电阻率由214000Ω降至0.2Ω 3、 光照可以明显改变半导体的导电能力

例如：淀积在绝缘体基片上（衬底）上的硫化镉（CdS）薄膜，无光照时电阻（暗电阻）约为几十欧姆，光照时电阻约为几十千欧姆。

另外，磁场、电场等外界因素也可显著改变半导体的导电能力。

综上：

? 半导体是一类性质可受光、热、磁、电，微量杂质等作用而改变其性质的材料。 二、课程内容

本课程主要解决外界光、热、磁、电，微量杂质等因素如何影响半导体性质的微观机制。

预备知识——化学键的性质及其相应的具体结构 晶体：常用半导体材料Si Ge GaAs等都是晶体 固体

非晶体：非晶硅（太阳能电池主要材料）

晶体的基本性质：固定外形、固定熔点、更重

车间技术员年终总结

篇一：企业车间工人个人工作总结 紧张的xx年年过去了,过去的一年可以说是不平凡的一年,作为车间的一名技术人员，我在车间领导和同志们的关心和支持下，通过努力工作，为企业做出了应有的贡献。在过去的一年中，我在工作和生活中高标准要求自己，做了很多工作，现将一年来的工作总结如下： 一．加强政治理论和技术知识学习，全面提高自己的政治文化素质和业务水平。 在xx年年年度工作中，我紧跟时代的步伐，加强理论知识方面的学习，通过阅读《xxx》，进一步学习领会“三个代表”重要思想的内涵和精髓，努力做到认识上有新提高、运用上有新收获，达到指导实践、促进工作、提高工作水平和服务能力的目的，同时学习了胡总书记的社会主义荣辱，并按照八荣八的耻的要求来做人做事，并及时写入常思想江报，积极向党组织靠拢，争取早日成为一名共产党员。在工作中不断的学习

新技术新工艺，不断的充实自己，不断的提高自己的技术水平，来指导自己的工作。 二．工作中发扬团队合作精神，努务完成车间的生产任务 1、在平时的工作中，首先做好日常工作，我与车间其他技术员既有分工又有合作，坚持经常和其他技术员进行工作交流，充分发扬民主，杜绝独断专行，统一思想统一

车间技术员年终总结

篇一：企业车间工人个人工作总结 紧张的xx年年过去了,过去的一年可以说是不平凡的一年,作为车间的一名技术人员，我在车间领导和同志们的关心和支持下，通过努力工作，为企业做出了应有的贡献。在过去的一年中，我在工作和生活中高标准要求自己，做了很多工作，现将一年来的工作总结如下： 一．加强政治理论和技术知识学习，全面提高自己的政治文化素质和业务水平。 在xx年年年度工作中，我紧跟时代的步伐，加强理论知识方面的学习，通过阅读《xxx》，进一步学习领会“三个代表”重要思想的内涵和精髓，努力做到认识上有新提高、运用上有新收获，达到指导实践、促进工作、提高工作水平和服务能力的目的，同时学习了胡总书记的社会主义荣辱，并按照八荣八的耻的要求来做人做事，并及时写入常思想江报，积极向党组织靠拢，争取早日成为一名共产党员。在工作中不断的学习

新技术新工艺，不断的充实自己，不断的提高自己的技术水平，来指导自己的工作。 二．工作中发扬团队合作精神，努务完成车间的生产任务 1、在平时的工作中，首先做好日常工作，我与车间其他技术员既有分工又有合作，坚持经常和其他技术员进行工作交流，充分发扬民主，杜绝独断专行，统一思想统一

车间技术员年终工作总结

紧张的2007年过去了,过去的一年可以说是不平凡的一年,作为车间的一名技术人员，我在车间领导和同志们的关心和支持下，通过努力工作，为企业做出了应有的贡献。在过去的一年中，我在工作和生活中高标准要求自己，做了很多工作，现将一年来的工作总结如下: 一．加强政治理论和技术知识学习，全面提高自己的政治文化素质和业务水平。在2007年年度工作中，我紧跟时代的步伐，加强理论知识方面的学习，通过阅读《江泽民文选》，进一步学习领会“十七大”重要思想的内涵和精髓，努力做到认识上有新提高、运用上有新收获，达到指导实践、促进工作、提高工作水平和服务能力的目的，同时学习了胡总书记的八荣八耻的社会主义荣辱，并按照八荣八的耻的要求来做人做事，并及时写入常思想江报，积极向党组织靠拢，争取早日成为一名共产党员。在工作中不断的学习新技术新工艺，不断的充实自己，不断的提高自己的技术水平，来指导自己的工作。二．工作中发扬团队合作精神，努务完成车间的生产任务 1、在平时的工作中，首先做好日常工作，我与车间其他技术员既有分工又有合作，坚持经常和其他技术员进行工作交流，充分发扬民主，杜绝独断专行，统一思想统一步骤，从而圆满完成车间的各项生产任务。2007年配合其他

【精品】技术员年终工作总结4篇

精品技术员年终工作总结4篇

总结是对某一特定时间段内的学习和工作生活等表现情况加以回顾和分析的一种书面材料，它能够使头脑更加清醒，目标更加明确，让我们好好写一份总结吧。我们该怎么去写总结呢？下面是x帮大家整理的技术员年终工作总结4篇，欢迎阅读与收藏。

技术员年终工作总结

篇1　　20xx年即将过去，我来公司已近一年，这是我从学校毕业第一次踏上工作岗位。作为一名新员工，非常感谢公司提供给我一个成长的平台，让我在工作中不断的学习，不断的进步，慢慢的提升自身的素质和才能。回首过去的一年，公司陪伴我走过人生很重要的一个阶段，使我懂得了很多。在此我向公司的领导以及同事表示最衷心的感谢，有你们的协助才能使我在工作中得心应手，也因有你们的帮助，才能令我在公司的发展上一个台阶。

我通过校园招聘来到扬州芯际半导体有限公司，担当设备部技术员一职，我主要职责是负责封装前道设备的调试、维护和维修等工作：包括刚来到时候配合厂商对设备的移动、定位和调试等工作负责；对设备出现故障时的维修负责；对设备进行周保、月保和年保等设备维护负责；同时保证及时保质的完成上级领导布置下来的任务；在维持设备的正常生产的情况下，尽量减少down机时间和保持设备机碎率在一