抛光工艺的特点及好处

河 南 工 业 职 业 技 术 学 院 毕 业 论 文

河 南 工 业 职 业 技 术 学 院

毕业设计（论文）

题 目 高 速 抛 光 工 艺

班 级 光 电 1101 班

专 业 光 电 制 造 技 术

姓 名 罗 永 强

指导教师 王 毅

日 期 2013年 9 月 30 日

目录

1

河 南 工 业 职 业 技 术 学 院 毕 业 论 文

摘要 .................................................................................................................................................. 4

第一章 抛光过程的各种加工工艺...............................

新三板挂牌的特点及对企业的好处

新三板挂牌的特点及对企业的好处

(一）新三板概念

三板市场是中国证券业协会主办的代办股份转让系统，由证券公司为非上市股份公司提供股份转让服务。三板市场有“新三板”与“旧三板”之分，“旧三板”是指由原STAQ、NET系统挂牌公司平移到代办股份转让系统的部分公司及深沪退市公司组成的交易系统。“新三板”是专门为国家级高新区非上市股份公司提供的代办股份转让平台，是由中国证监会、国家科技部设立的。“新三板”的主要功能是实现挂牌公司定向融资，为投资者提供退出渠道，是我国多层次资本市场的重要组成部分，也是中小板和创业板市场的蓄水池。2006年1月23日，中关村科技园区获批进入代办股份转让系统。“新三板”运作一年多来效果良好，挂牌企业已达26家，成交十分活跃。目前，中国证监会、科技部等有关部门要求扩大国家级高新区试点范围，争取在未来几年内实现有4000多家企业挂牌。

（二） 新三板有什么特点？

1、只为高新区非上市股份公司股份转让提供报价服务，不撮合成交。双方协商达成转让意向的，委托证券公司办理系统成交确认后再发送到证券登记结算机构和资金结算银行逐笔办理股份过户和资金交收。

2、报价转让每笔委托的股份数量不低于3万股。

3、公司挂牌实行主办

文件名称 下摆机研磨工艺 作成 具 体 内 容 制定时间 审核 版次 批准 第一版 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部 误差△N的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍)。 另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识： 1、光圈的概述： 被检查镜面表面面形与标

不锈钢电解抛光工艺

一.工作原理

⑴、电解是以抛光工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入电化学槽中，通直流电而产生有选择性的阳极溶解，因此不锈钢表面达到高度光洁和光泽的外观。

⑵、电解作用 不锈钢经过电解,其色泽内外一致,清洁光亮,光泽持久，表面形成---黏性薄膜,抗腐蚀性能增强。 二. 电解溶液组成和工艺条件

1.磷 酸：能起溶解作用又能在不锈钢表面形成磷酸盐保护膜，阻止不锈钢表面发生过腐蚀。其含量变化较宽，以750mL/L左右为佳。

（1）含量过高时，槽液电阻增大，黏度提高,导致所需电压较高，使整平速度迟缓。

（2）含量过低时，活化倾向大，钝化倾向小，导致不锈钢表面不均匀腐蚀。 2.硫 酸：是活化剂，能提高溶液的导电率，降低电阻，从而降低槽电压，节约电能，有利于改善分散能力和提高阳极电流效率。其含量控制在180～210mL/L为最佳。

（1）含量过高时，活化倾向太大，易使抛光表面出现过腐蚀，呈现均匀的密集麻点。

（2）含量过低时，出现严重的不均匀腐蚀。

3.铬 酐：是强氧化剂，使表面形成钝化膜，避免表面腐蚀，有利于获得光洁表面。其含量控制在50～60g/L为宜。 （1）铬酐浓度太低，不易获得光亮表面。

（2）浓

文件名称 下摆机研磨工艺 作成 具 体 内 容 制定时间 审核 版次 批准 第一版 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部 误差△N的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍)。 另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识： 1、光圈的概述： 被检查镜面表面面形与标

化学机械抛光工艺（CMP）

摘要：本文首先定义并介绍CMP工艺的基本工作原理，然后，通过介绍CMP系统，从工艺设备角度定性分析了解CMP的工作过程，通过介绍分析CMP工艺参数，对CMP作定量了解。在文献精度中，介绍了一个SiO2的CMP平均磨除速率模型，其中考虑了磨粒尺寸，浓度，分布，研磨液流速，抛光势地形，材料性能。经过实验，得到的实验结果与模型比较吻合。MRR模型可用于CMP模拟，CMP过程参数最佳化以及下一代CMP设备的研发。最后，通过对VLSI制造技术的课程回顾，归纳了课程收获，总结了课程感悟。

关键词： CMP、研磨液、平均磨除速率、设备

Abstract：This article first defined and introduces the basic working principle of the CMP process, and then, by introducing the CMP system, from the perspective of process equipment qualitative analysis to understand the working process of the CMP, a

不锈钢抛光新工艺

为了提高不锈钢制品的耐蚀性及装饰性，需要对不锈钢表面进行抛光。目前，使用的有手工、机械、化学三种抛光和电化学抛光。

由于现有的不锈钢电抛光液都采用磷酸和铬酐，在抛光和清洗过程中有不少铬（Ⅵ ）及磷酸根在废水中排出，造成环境污染，通过试验，推荐下列配方和工艺条件。

1 2 3

H3PO4(%) 40-50 20-30

H2SO4(%) 15-20 20-30

HNO3(%) 10-15

高氯酸（%） 8-10

冰醋酸（%） 余量

H2O 余量 余量

添加剂 适量糊精 适量甘油 A添加剂少量

t(℃) 60-70 65-70 常温

Da(A/dm2) 20-30 15-30 10-30

T(min) 3-5 3-8 3-5

环保型电抛光液配方1、2不用铬酐，磷酸用量少，这种配方减少了污染排放。配方3完全不用磷酸和铬酐，解决了废水排放的环境问题，是一种全新型的无污染的环保型电化学抛光剂，其工艺流程如工艺如工艺条件与原有的基本相同，抛光效果也基本相同，保证了抛光质量。 在生产过程中不锈钢表面容易出现一些黑色氧化皮或是微观不平等，影响其使用价值。只有对其再加工如机械抛光、化学抛光和电化抛光处理来提高其自身价值，因此推荐以下的工艺或许可获得较好的效果。

化学去

化学机械抛光液（CMP）氧化铝抛光液具体添加剂

摘要：本文首先定义并介绍CMP工艺的基本工作原理，然后，通过介绍CMP系统，从工艺设备角度定性分析了解CMP的工作过程，通过介绍分析CMP工艺参数，对CMP作定量了解。在文献精度中，介绍了一个SiO2的CMP平均磨除速率模型，其中考虑了磨粒尺寸，浓度，分布，研磨液流速，抛光势地形，材料性能。经过实验，得到的实验结果与模型比较吻合。MRR模型可用于CMP模拟，CMP过程参数最佳化以及下一代CMP设备的研发。最后，通过对VLSI制造技术的课程回顾，归纳了课程收获，总结了课程感悟。

关键词： CMP、研磨液、平均磨除速率、设备

Abstract：This article first defined and introduces the basic working principle of the CMP process, and then, by introducing the CMP system, from the perspective of process equipment qualitative analysis to understand the working process of

古代埃及工艺美术的发展及特点

摘要：古埃及在公元前4000年左右出现了奴隶制国家，到公元前3000年，上埃及国王美尼斯征服了下埃及，建立了统一专制的王朝。埃及经历了古王国（公元前3000年——公元前2300年）、中王国（公元前2150年——公元前1200年）、新王国（公元前1071年——公元前332年）三个统治时期。

前王朝时期埃及犹处于铜石并用时代，已有城市和最早文字，各小国兼并走向统一大国。早期王朝的第1王朝首次完成全国统一，宣告了古埃及文明的成熟。古王国时期是古埃及文明的第一个发展高峰，铜石并用文化达于繁盛，金字塔的建造、文字的完善、生产技术的提高与艺术的精美，使埃及文明进入世界古代文明的前列。经第一中间期而到中王国时期，埃及进入青铜时代，这时不再建造金字塔，神庙建筑和岩窟墓流行，文字也由圣书体向僧侣体演变。到新王国时期，埃及成为东方帝国，青铜文明达于全盛，首都底比斯的阿蒙神庙、王陵之谷及尼罗河西岸墓地的数以千计的墓葬，构成古埃及文物的大宗。这时雕像、壁画遗存丰富，技艺完美，建筑工程和各类工艺品反映了古埃及生产技术的最高水平。宗教对埃及的影响很大，埃及著名的建筑金字塔就是受宗教影响的典范。

关键词：

1、陶工艺：表现手法有简练；也有

打造一个高质量的硅PU地坪，需要在施工过程中注重每一道工序，每一道工序都严格按照施工工艺进行，这样才能打造出具有超强的耐磨性、舒适性、抗污性和耐用性的硅PU地坪，硅PU地坪在运动场地面中具有绝对的统治地位，耐磨抗压、弹性好是它的标签，今天我们从准备工作到施工来聊聊硅PU地坪。

硅pu球场适用地点：

室内外硅pu篮球场、硅pu网球场、硅pu羽毛球场、硅pu排球场、硅pu乒乓球场、体操场地、运动休闲广场、幼儿园、房屋顶及其它运动场地等。

硅pu球场施工工艺

1、基础地面处理：基础面要求平整度好，将裂缝及脱壳、起沙部位进行打磨，并用专用材料进行修补，如果是旧地面应先将地面污物磨去。

2、硅pu底涂层施工：先将地面清洗干净，待场地清洁完毕无积水方可做底涂层。底层涂刮以薄为宜。

3、硅pu弹性层施工：用带齿镘刀将缓冲层材料涂刮于基面上2道，每道涂刮时间间隔以前一道干固为准（一般约10小时），具体视现场天气情况而定。 4、硅pu加强层施工：待缓冲层材料干固后，用滚筒将加强层材料在整个场地滚涂一遍。

5、硅pu面漆涂层施工：在硅pu加强层上滚涂两遍面漆，做成颜色鲜艳、耐候性好的面层。如需做成色彩配搭的面层则要按图纸设计的颜色进行施工 6、划线：用球场专