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LDMOS简介

标签:文库时间:2025-01-21
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什么是RF LDMOS晶体管

DMOS主要有两种类型,垂直双扩散金属氧化物半导体场效应管VDMOSFET( vertical double-diffused MOSFET)和横向双扩散金属氧化物半导体场效应管LDMOSFET (lateral double-dif fused MOSFET)。LDMOS由于更容易与CMOS工艺兼容而被广泛采用。LDMOS

LDMOS (横向扩散金属氧化物半导体)

LDMOS器件结构如图1所示,LDMOS是一种双扩散结构的功率器件。这项技术是在相同的源/漏区域注入两次,一次注入浓度较大(典型注入剂量 1015cm-2)的砷(As),另一次注入浓度较小(典型剂量1013cm-2)的硼(B)。注入之后再进行一个高温推进过程,由于硼扩散比砷快,所以在栅极边界下会沿着横向扩散更远(图中P阱),形成一个有浓度梯度的沟道,它的沟道长度由这两次横向扩散的距离之差决定。为了增加击穿电压,在有源区和漏区之间有一个漂移区。LDMOS中的漂移区是该类器件设计的关键,漂移区的杂质浓度比较低,因此,当LDMOS 接高压时,漂移区由于是高阻,能够承受更高的电压。图1所示LDMOS的多晶扩展到漂移区的场氧上面,充当场极板,会弱化漂移区的