光学镀膜公司

1、在膜系中，光学厚度为四分之一长中心波长的膜层，对中心波长的反射率没有影响。 这个膜层称为虚设层。

2、测量薄膜器件的反射率、透过率等光谱特性曲线的常用仪器为分光光度计。

3、任何一个复杂的薄膜系统，其反射率的计算问题都可以通过其等效界面对应的等效光学 导纳进行计算。

4、偏振中性分束棱镜的设计原理，利用的是光束倾斜入射时的偏振效应。

5、在截止滤光片中，通常把抑制短波区，透射长波区的滤光片称为长波通滤光片。 6、在截止滤光片中，通常把抑制长波区，透射短波区的滤光片称为短波通滤光片。 7、光学真空镀膜机大多数是热蒸发真空镀膜设备，主要由三大鄱分组成：真空系统、热蒸 发系统、膜厚控制系统。

8、光学真空镀膜机的膜厚控制系统通常包括光学膜厚控制仪、石英晶体振荡膜厚控制仪。 9、光学膜厚控制系统对膜厚的监控是根据光学信号的极值点来判断膜层厚度。

10、石英晶体振荡膜厚控制系统监控膜厚主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效 应。

11、光学薄膜制备过程中常用的热蒸发方式为电阻蒸发、电子枪蒸发。

12、光学真空镀膜机中用于测量真空度的仪器是真空计，包括电偶真空计和电离真空计两种。 13、影响薄膜器件光学性能的膜层光学参数是膜层的折射率

光学基础知识及光学镀膜技术

光學薄膜是指在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來

改變光波傳遞的特性。即應用光波在這些薄膜中進行的現象與原理，如透射、吸收、散

射、反射、偏振、相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學

與工程上的應用。在本廠的實際應用上，DM半透板與ITO鍍膜屬於這個領域。

光學薄膜雖早於1817年Fraunhofer已經開始利用酸蝕法製成了抗反射膜，但是真正

的發展是在1930年真空鍍膜設備之後。而軍事的需求(望遠鏡、飛彈導向鏡頭、監視衛

星、夜視系統等)加速了光學薄膜的開發與研究。計算機的出現使得設計更為方便，相對

的各種理論及設計方法因應而出，光學薄膜的研究於是更為進步並充分應用於各種光電

系統及光學儀器之中，如光干涉儀、照相機、望遠鏡、顯微鏡、投影電視機、顯示器、

光鑯通訊、汽車工業、眼鏡等。

光學薄膜基本上是藉由干涉作用達到其效果的。簡單的如肥皂泡沫膜、金屬表層的

氧化膜、水面油層的顏色變化，都可以視為單層干涉的效果。因此，當光在膜層中的干

涉現象可以被偵測到時，我們就說這層模是薄的，否則是厚的(k值消散掉)。由於干涉現象不僅跟膜層的厚度有關，而且光源的干涉性和偵測性的種類也有關。

接下來為各位介紹幾個主

镀膜背景知识

1、 光线垂直入射示意图及反射率计算公式：

比如真空内(na=1.0)光线垂直入射在镀有单层MgF2( nf=1.3836)的K9玻璃(ns=1.5168)上,可以求出,这时的反射率大概在1.34%左右

(

也就是说透过率在98.6%左右);当然,实际镀膜情况比上式复杂的多,通过多层镀膜,我们可以得到需要的反射率(或透射率).

2、光线倾斜入射示意图：

TrueOptics make your idea comes true!

『光电在线』光电资讯与技术交流的专业平台！

Page 1 of 2

3、镀膜类型及属性： 反射膜

类型 紫外增强铝膜

波长（nm）

反射率

抗磨损能力中等

价格低

属性

通过氟化镁膜增强紫外反射率

通过SiO膜增强可见光反射率

多层介质膜增强可见和近红外反射率

可见和红外反射能力强于铝膜

近红外到红外反射能力略强于保护银膜

在带宽范围有非常高的反射率

在窄带范围有非常高的反射率

对于准分子激光有高反射率和高损伤阈值 对于Nd:YAG激光有高反射率和高损伤阈值

avg >90%

保护铝膜

avg >88% 中等 低

金属膜

增强铝膜

avg >93% 中等 低

保护银膜

0.48–20μavg >96% 中等 低

保护金膜

0.65–20μavg

镀膜背景知识

1、 光线垂直入射示意图及反射率计算公式：

比如真空内(na=1.0)光线垂直入射在镀有单层MgF2( nf=1.3836)的K9玻璃(ns=1.5168)上,可以求出,这时的反射率大概在1.34%左右

(

也就是说透过率在98.6%左右);当然,实际镀膜情况比上式复杂的多,通过多层镀膜,我们可以得到需要的反射率(或透射率).

2、光线倾斜入射示意图：

TrueOptics make your idea comes true!

『光电在线』光电资讯与技术交流的专业平台！

Page 1 of 2

3、镀膜类型及属性： 反射膜

类型 紫外增强铝膜

波长（nm）

反射率

抗磨损能力中等

价格低

属性

通过氟化镁膜增强紫外反射率

通过SiO膜增强可见光反射率

多层介质膜增强可见和近红外反射率

可见和红外反射能力强于铝膜

近红外到红外反射能力略强于保护银膜

在带宽范围有非常高的反射率

在窄带范围有非常高的反射率

对于准分子激光有高反射率和高损伤阈值 对于Nd:YAG激光有高反射率和高损伤阈值

avg >90%

保护铝膜

avg >88% 中等 低

金属膜

增强铝膜

avg >93% 中等 低

保护银膜

0.48–20μavg >96% 中等 低

保护金膜

0.65–20μavg

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值得保存。

光学薄膜和镀膜技术的基础教程,李正中编著,第五版。扫描转换为PDF文档,值

ITO镀膜教材

第一章

第二章

第三章

第四章

第五章 ITO玻璃教育訓練教材

ＬＣＤ簡介 ＩＴＯ玻璃

２〃１ ＩＴＯ玻璃簡介

２〃２ ＩＴＯ玻璃製造流程 ２〃３ ＩＴＯ玻璃生產管理

切割及裂片作業說明

３〃１ 製程簡介

３〃２ 治具規格說明

３〃３ 製程操作說明及製程條件設定 ３〃４ 機台故障排除ˋ停電處理程序 ３〃５ 品質自主檢查 ３〃６ 其它注意事項

磨邊及倒角作業說明

４〃１ 製程簡介

４〃２ 治具規格說明 ４〃３ 製程條件

４〃４ 機台操作及故障排除 ４〃５ 品質自主檢查 ４〃６ 其它注意事項

清洗作業說明

５〃１ 製程簡介

５〃２ 洗淨配藥方法 ５〃３ 製程條件

５〃４ 機台操作及故障排除 ５〃５ 品質自主檢查 ５〃６ 其它意事項

ITO镀膜教材

第六章 拋光作業說明 2.1拋光玻璃作業流程簡介 2.2拋光原理

2.3拋光玻璃之規格

第七章 機台簡介與製程條件設定 2.1拋光機台簡介 2.2製程條件設說明

第八章 拋光五大控制因素 3.1 P.P的管理 3.2 Pad的管理

3.3 template的管理 3.4研磨劑的管理 3.5振幅的管理

第九章 機台操作與拋光作業注意事項 4.1作業前之確認事項 4.2機台操作

4.3拋光作業注意事項 4.4破片處理程序

第十章 研磨劑測量及Pad

大面积磁控溅射工艺

1、介绍

在玻璃或卷材上制备的用于建筑、汽车、显示器和太阳能应用的光学多层膜是利用反应磁控溅射以具有可重复的稳定的高沉积率进行生产的。在整个基底宽度上的良好膜厚均匀性和适当的工艺长期稳定性是为了满足生产要求所必须的。动态沉积率（镀膜机的生产率），膜的化学成分和工艺稳定性（包括膜厚分布的临界参数和起弧行为）都需要使用对于大面积光学镀膜的先进的工艺稳定技术。这意味着对于研制的高要求存在于大面积反应磁控溅射工艺。对于把在实验室条件下开发的工艺转移到大规模工业镀膜机这个过程存在着很大的风险性。为了克服这个升级问题，研制生产安装了一台工业规模试验型设备。该设备可以处理的基底宽达到3.2m。

除了对于反应溅射的工艺稳定性方面的简单的介绍外，本文还包括了一个对于我们这台用于磁控溅射研究和开发的工业规模实验型镀膜机的介绍。这将使用关于在该设备中获得的氧化锌和二氧化钛工艺的改善的结果来进行说明。

2、反应溅射的工艺稳定性

反应溅射工艺是以滞后现象作为表征的。自稳定工作点只存在于金属模式和反应模式。存在的自稳定范围必须扩大到过渡范围以保证工业镀膜设备的生产运作。下面将介绍等离子体发射控制器的在这方面的使用。

溅身踱膜及其与落发镀膜的物理过程比较

南京工学院

陈国平

摘

要厂

本文从溅射镀膜与蒸发镀膜的物理过程的比较分机包氛沉积粒子的产生过程,次迁移立程士汉成膜过程,

说明溅身榷膜的

特点及导致溅射镀膜工艺近年来迅速发展的原因··

。

溅射现象早在上个世纪中叶就为

。

二

年所发现

,

但是运用于录溅制造与溅射与蒸发这两种工艺进行。,

了长期的竞争本世纪六十年代以来

由于在真空

技衣高纯材料尤其是金夙半导认情性气体射镀膜工艺在沉积膜层的粘附力,。

超高真空—以及单晶材制

料

泊勺应用等方面的进展使得溅备技术和各种放电类型在溅射镀膜止

,

致密性和均匀性,

,

工艺条件的重

覆性加刚垄性膜层材料广泛澎圣的可能性性等方面都显示出比之蒸

以及应用范围的广泛,

膜工艺来得优越揪凳

因而近年来得到迅

速的发风

本文从溅身灌膜与蒸发镀膜的物理过程的比较分析

,

说明溅射

镜膜的特点及导致溅射镀膜工艺近年来迅速发展的原田

。

、沉积粒子的产生过程尤

粒子的能量……

蒸发就是产生气化的过讯从液态汽化或固态升华所产生的粒子

原子

只具有较代的热运动动能

,

在通常的蒸脚昆度下

,

其值

约为。

…

。。

电子优

。

浓射是以动量粉运为墓孔的子产生碰撞,

。

具有较高能量的入射离子与靶原

通过动介的传递

,

使某些靶原子获得一赵心动能后飞,

溅脱离靶似因此

篇一：磁控溅射镀膜实验报告 近代物理实验 磁控溅射镀膜

宋爽 核12 2011011723 指导老师：王合英 2013-5-24 【摘要】

本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系，并在载玻片上镀上了铜膜。

关键词：磁控溅射镀膜，辉光放电，溅射速率，溅射气压、溅射功率 一． 前言

当今信息社会，众多通讯机器的心脏部分，离不开以薄膜技术为基础而制作的元器件、电子回路、集成电路等。磁控溅射镀膜是目前应用最为广泛的薄膜制备方法之一。

磁控溅射技术是在普通的溅射技术基础上发展起来的。溅射是近年来在真空镀膜中得到广泛应用的一种 成膜方法。

溅射法是利用高能离子（电场加速正离子，由电极间工作气体在强电场作用下电离产生）高速冲击负极溅射材料表面，发生碰撞。由于高能离子的能量大于靶材原子表面结合能，从而使靶材表面的原子或分子等得到入射离子的能量，逐渐溢出表面形成溅射。溅射镀膜就是基于荷能离子轰击靶材时的溅射效应，整个过程都是建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。

而磁控溅射技术工作原理如图1所示： 图1 磁控溅射原理

就是在