介质阻挡放电产生等离子体简介
更新时间:2023-05-23 08:46:01 阅读量: 实用文档 文档下载
2(犯年第 1 X 0
卷第 6期总第 9期 3
巢湖学院学报f o o J u m目 o Cha hu Co l
N o 6 V o l 10 2的 8.
.
,
.
.
哪
o e i e e G n司 S r目 N 93.
介质阻挡放电产生等离子体简介朱爱国许雪艳朱仁义程民治(巢湖学院物理与电子科学系安徽,
3 (巢湖 2 80
x〕
摘
要:本文简要地介绍了等离子体的墓本概念和来源较为详细地描述了几种常见的放电,,,。
形式并着重讨论了介质阻挡放电对其徽放电的物理机制也作了细致的表述其中还列出了几个影响徽放电的外在因素
文章的最后是对介质阻挡放电的一些实际应用作了较为详细
的探讨
。
关 I词:等离子体;介质阻挡放电;物理过程;应用:中圈分类号 0 3 5 1
文献标识码: A
:文章编号 1 6 7 2
一
8 8 2X ) 6 2 6《( 8 0 )
e
加5吞刁5
作为自然科学荃石的现代物理学已经发展,
体的电离、、
。
电离的气体可以称之为等离子体它,、
众多的科学分支其中包括许多相对独立的子学
,
是由大量带电粒子 (离子电子 )和中性粒子 (原子分子自由基等 )组成的系统,,
科它们正以前所未有的深度和广度推动人类了解自然从更深更广的层次揭示自然界的秘密,,、、、。
。
。
日常生活中很
难接触到等离子体但在自然界中 9%的物质都是以等离子体形态存在的我们的地球就是被一弱电离的等离子体所包围在地球以外的宇宙空,
在这个过程中许多物理学的新思想新理论新方法和新技术涌现出来为人类知识财富大厦增,
添新的内容离子体1 11.
。
笔者所要探讨的介质阻挡放电等
“
间绝大部分也都是等离子体如太阳以及其他恒星太阳风很多的星际物质而电弧冤虹灯日、、,、
,
”,
就是现代物理学的一个子学科
离子体物理》的一个前沿性的热门课题中引宫
—。
《等
、
光灯中发光的气体等都是人造的等离子体12.
。
等离子体的来源n刀,、
等离子体权述,
在一定的温度和压力条件下、、
物质的状态,
获得等离子体的方法和途径是多种多样的会涉及许多经典的微观过程物理效应和实验方法。
(固液气态 )是可以相互转变的如果对气态提。
除宇宙星球星际空间和地球高空的电离层,
、
供足够的能量当气体的温度足够高时构成分子的原子就会获得足够大的动能开始彼此分,
,
等自然界产
生的等离子体以外下面主要介绍几:种常用的产生等离子体的方法1 2 1气体放电法.
离能量大到一定程度时一部分原子外层电子,,
.
就会摆脱原子核的束缚成为自由电子失去电子的原子变成带正电的离子这样的过程就称为气,
,
在电场作用下获得动能的带电粒子与气体分子发生碰撞导致气体击穿放电而形成等离子体,。
收稿日期: 2 ( 8司 8一 2 9 ) X: X 1 )甚金项目巢湖学院科学研究基金资助项目 ( L一 2的 8 5 Y:作者简介朱爱国 (19 8 2.
一
)男安徽安庆人,,
。
:巢湖学院物理系教师硕士研究方向理论物理和物理实验,,
。
56
1 2 2光电离或激光辐射电离法 .
.
i c r d s ha g e以下简称 D BD ),
、
射频单电极电晕放电e ee
借人射光子能量使物质分子电离能量大于或等于该物质的电离能。,,
,
当光子
(山r出
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可形成等离
s r d is e ha g e )滑动电弧放电 ( id e d i c ha飞 e )射流 l g
子体激光辐射不仅有单光子电离还有多光子
放电 ( t d sc e j i h ( o叩 h石e m t a epr e
g r a
e
)
、
大气压下辉光放电se
电离和级联电离
,
容易获得高温高密度的等离
ssu r e
gl w i o d
h毗 e )
、
次大气压ss
子体
。
T辉光放电 (h坪.
。一 a tm o s
p he r e pr i e
眠
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1 2 3射线辐照法 .
i c r d s ha g e )等电晕放电产生的低温等离子体主要。、
用各种射线 (括 a尹 y射线和 x射线 )或包
分布在极不均匀电场中的强电场区域不适合工业大规模的应用而且这种放电较弱产生的等,,
,
粒子束(电子束离子束等 )对气体辐照可以产生
、
等离子体.
。
离子体及活性粒子的效率太低;辉光放电一般在低气压下进行需要真空系统在工业化处理过,,、
1 2.燃烧法 4
借助热运动动能使气体中足够大的原子分子相互碰撞引起电离来产生等离子体12 5 ..
程中难以连续生产生产效率低;射频单电极电晕,
。
放电的能量高放电的范围大现在已经被应用歌,
、
冲击波法,,
材料的表面处理和有毒废物清除与裂解中;滑动电弧放电产生的低温等离子体为脉冲喷射可以,
当冲击波在气体中通过时气体因受绝热压缩而产生高温从而在冲击波背后形成热致电离等离子体.
得到比较宽的喷射式低温等离子体炬,、
。
和以上几
。
种方
式相比介质阻挡放电具有均匀漫散和稳定的特点最具有广泛的工业生产应用前景、,,。
1 2 6场致电离 .
利用针状电极附近的强电场使原子分子离子化从而产生等离子体,。
介质阻挡放电阎又称无声放电它是一种有绝缘介质插人放电空间的气体放电介质可以覆盖在一个电极上,,
13.
介质队档放电o c (o a r n、
也可以同时置于两个电极上。,
,
气体放电产生等离子体的方式主要有电晕放电h而ci c d s h田名e )、
或者悬挂于放电空间间隙中常见的介质阻挡放电构型有平板式电极结构和管线式电极结构如
辉光放电 (衅砂o
ar g e
)
i d lc r i介质阻挡放电 ( ee t
b
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图
1
所示
。
其中管线式电极结构被广泛的应用于各种化学反应器中而平板式电极结构则被广泛的应用于工业中的高分子和金属薄膜及板材的改性、,
形成电场,
,
空间电子在这一电场作用下获得能,
量与周围气体分子发生非弹性碰撞电子从外
界电场获得能量转移给气体分子气体分子被激
。
接枝表面张力的提高清洗和亲水改性中2
、
、
。
励后发生电子雪崩出现了相当数盆的空间电荷聚集在雪崩头部形成本征电场再与外加电场叠加起来形成很高的局部电场,,,,
,
,
介质阻挡放电的物理过程
电源电压通过电介质电容藕合到放电间晾
在此作用下
,
雪崩中的电子得到进一步加速使放电间隙的电
,
样一个导电通道能非常快速地形成大量微细丝状的脉冲流光微放电侧如图 2所示,。
子形成空间电荷的速度比电子迁移速度要快这,
当微放电通道形成以后空间电荷就在通道,
应用在以下几个方面
:
内输送并累积在电介质表面产生反向电场而致
(臭氧的合成与应用 ) l
放电熄灭形成微放电脉冲所以介质阻挡放电,
,
臭氧是强氧化剂杀菌消毒剂催化剂脱色剂和除臭剂、,
、
、
、
的电源必须要用交流电源才能维持这种脉冲另外电介质的分布电容对于微放电的形成有着十,
。
可广泛应用于上下水深度处理纸、、
、
浆漂白食品工业化学工业环境保护及医疗系统的杀菌灭毒等 D B D是产生高浓度高产量臭氧。
分重要的镇流作用一方面由于电介质的存在,
。
,
,
有效地限制了带电粒子的运动防止放电电流的无限制增长从
而能够避免在放电间隙形成火花,
的一种十分有效的技术手段可以有 3种基本模,
式即圆管式臭氧发生器平板式臭氧发生器和沿面臭氧发生器。
、
放电或弧光放电;另一方面电介质的存在可以,
有关臭氧产生的动力学行为在很。
使微放电均匀稳定地分布在整个放电空间中有利于获取大量的等离子体实际上在介质阻挡放电过程中起主导作用的就是上述的微放电在交流电压的一个周期内可以把微放电分成 3个阶: s击段放电的形成 (穿)需要几个 n;放电击穿后,,
,
多文献中都有报道
。
(紫外光源和高功率 C O激光器的激励阁 ) 2:
紫外光源是由准分子的衰变产生的常见的,
准分子有惰性气体准分子惰性气体和卤素元素组成的双原子分子或三原子分子的准分子xe,
、
。
对于+e,
微一气体间隙电流脉冲或电荷的输送 (放电寿命)般需要 1 0l加nsn s
发生辐射的过程应为 X+
:
e
+
e
” XXe,
e*
左右;自由基准分子等的形成需要、
Xe*
Xen
+
X e叶 X eZ *。
+
X e X e Z*,
叶
+
Xe
干
至 1
5
左右
。
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) m
应用不同成分的气体可以获得不,
典型的介质阻挡放电中微放电的主要特性和主要参量在徐学基等编著的《体放电物理》气
同波长的紫外光源14 7n
*如 Arn
2
2是 1 7
n u l。
,
Kr *
:
是
m
,
A沈l是 17 * 5
m
等
,
通过调整气体成分n
中有详细的表述即介质阻挡放电与气体压强,
p
、
1就能获得整个紫外区 ( ) 4加 m光源 )
放电间隙宽度 d,
、
介质电容率 e,。
、
气体浓度等有源,
应用
D BD
:作为高功率 C O激光器的激励电,
关且一般认为影响放电电压的主要因素为气体. c( )压强和间隙宽度即 v a f p d
可以克服传统的直流激励电源的一些缺点、、
另外许多国内外、
如放电不稳定没有脉冲需要镇流电阻等D BD
。
在,,
科研小组还分别研究了不同的电极结构介质电容率和厚度以及放电间隙等一些外在因素对放. s电功率的影响I司。
中
,
电极表面覆盖的电介质有镇流作用不,
但能有效地提高功率密度制的高功率管表面用,
同时还降低了能耗。
提高激光器的运行效率和寿命CO:
K Ya u sl
冈
等研,
3
介质阻挡放电产生等离子休的应用,,,
激光器,
,
电极结构为方形金属2一
产生等离子体的方法多
种多样但与其它方法相比介质阻挡放电有着实验操作简单装置
,
. 0 8 m m
厚的确硅酸盐玻璃覆盖管内Coj
通去离子水冷却阴极气体由 C0::成混合比为 8 4 6 0:
N Z一N e组,
便利更换样品快捷等无法比拟的优点目前在
,
,
8 2
,
a .气体压力为 9 3 k P采
实验室和工业应用上更受青睐
。
目前 D B D主要
z l用 1 0 k H电源驱动得到直径为 Z,
u n
最大光
束的基模输出
。
:下同时脱除 5 0的效率高达 8% 0
,
同时关于
(3等离子体平板显示器 )
N O CO、,
:
Z、
50。
:
的处理在国内外已经有大量的文“”。
利用 D B D气体放电原理p a s示器 ( lmas d i p l pa叮 n
单色等离子体显,
献报道阳刃另外在处理工业三废和甲醛过程中 D B D显示出了其无可比拟的优越性,
D P p )直接利用惰性气体放电产生可见光照射到显示器上彩色 P P利 De
l,
(6表面改性 ),,
酬
用气体放电激发出紫外线紫外线照射到红绿蓝三色光敏光粉上再产生彩色可见光照射到显示
,
低温等离子体对材料表面的作用可有 4种:情况表面杂质清除表面刻蚀表面交联和形成
器上
。
这种显示器的主要优点是容易获得大面、
:
具有新化学结构的表面表面杂质清除是指许多
。
积显示重量轻体积小视角大拥有比较好的图像稳定度能够抵抗恶劣的环境,
、
、
、
有机材料在生产过程中往往需要加人一定量的
。
填充料层,、,
,
这些物质聚集在材料表面形成杂质表,
(合成新物质 ) 4n v年 L k Ya o等人采用 D B D方法在 u 2高气压下把 C 0和 C氏等合成乙醇乙醛 19 919 4 7i n n年 B a Mi dog阁
,
利用等离子体溅射可以有效的除掉杂质而。,,,
且无废水废物表面刻蚀往往将材料表面弱边界
大片除去使材料表面产生起伏变粗糙并有键的断裂形成自由基对提高粘附性吸湿性等均,,、
等人在大气压条件下
,
采用
D BD强,
:电场电离放电方法成功地把 N加玩合
有明显作用利用以上技术现在已经成功地应用于纺织材料表面改性口词化学气相沉积和薄膜、
。
3成 N H许多研究者在这方面进行了研究且取得
但目前合成物的浓度还偏低产量还偏小效率不高不能满足实际工业的要求,,,
了一定的进展
,
的制备
。
(照相技术 ) 79 0 1 4年前苏联科学家 S m yo指出介
质阻挡 e n,
问
、
. 1半导体材料的刻蚀P切等
。
(5环境保护方面 )::近年来 N o 50引起的酸雨 CO引起的温 x,、、
放电照相技术将在成像技术工业无损检测植物湿度测量等领域有着较大的应用价值西安交大的。
、
、
室效应等已经成为影响人类生存与发展的全球
性问题因此寻找能够有效解决这些问题的方法,
翁明,
阅
等人采用高压纳秒脉冲介质阻挡放电技、,、
迫在眉睫也是许多科学研究工作者面临的一个+分严峻的课题 19 9 1年 M o。
,
术研究了硬币叶片和人体指纹所得到的图案比用普通光学摄影获得的图像更完整清晰且对比度,
B e e n e ha n
沪等人
利用 D B D并结合紫外照射技术在模拟烟气条件
高提供了非平面图案复印和提取的方法,
。
今考文献:X拓 (: 2【轰建新认识物质的第四态一等离子体田北学教学 Z I] l ) 5 9.
,
,
一
30 .,
价」朱学物质的第四态一等离子体[常州信息职业技术学院学报] J.
,
,
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