EM-EOP-109B 捷佳伟创PECVD设备操作规范 - 图文

■Q □E □S 文件名称 修订日期 2012-12-20 2014-09-17 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 1 / 13 版本 A B 新版制定 修订 5.4.2；5.4.3 修订说明 修订部门 设备部 编 制 审 核 批 准

GM-012B ■Q □E □S 文件名称 1. 目的 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 2 / 13 制定捷佳伟创管式PECVD设备规范，以提供捷佳伟创管式PECVD设备装机及使用操作，保养的规范依据。 2. 范围 电池生产车间的设备工程师/设备助理工程师/设备技术员于设备装机及平时操作机台时使用。 3. 定义 无 4. 职责 设备负责本规范的制定及修改，设备人员依据本规范进行相应的设备调整、操作及保养工作。 5. 作业内容 5.1 设备规格 5.1.1 主体部分 5.1.1.1 材质：不锈钢支架、特种钢底座、有机玻璃安全防护门及防漏电油漆金属保护盖板 5.1.1.2 设备所需电力 电力需求 机台 电压 item1 380V 赫兹 50HZ 相 3F/PE 额定电流 60A 设备功率 135KVA 5.1.1.3 设备所需气体要求 设备所需气体 气体名称 CDA N2 NH3 SIH4 压力(bar) 6 3 2.5-3 2-2.5 5.1.1.4 设备所需抽风要求

管径（mm） 6 8 4 4 GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 3 / 13 抽风需求 printer Pump 抽力 250mc/h 400mc/h 管径 100mm 60mm 5.1.1.5 设备尺寸 设备尺寸（长*宽*高）mm 上料箱 捷佳伟创 （毒气外排柜） 炉管箱 气柜箱 Adixen pump 5.1.1.6设备所需冷却水要求 设备所需冷却水 进水压力 进出水压差 温度 5.1.2 设备示意图

24000*15750*32700 3400*15150*30400 20000*14400*33000 13000*14300*31000 9000*4000*8000 Pump（真空泵） 大于0.5M Pa 大于0.35M Pa 18～23℃ GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 4 / 13 5.1.2.1 控制及操作元件 5.1.2.2 装料台 5.1.2.3 带TGA毒性气体抽排装置的抽排系统 5.1.2.4 最多五层的水平式炉体 5.1.2.5 气柜 5.1.2.6 射频电源 5.1.2.7 真空泵 5.2 设备组成及功能 5.2.1装料台：用来将硅片装到工艺舟中去，工艺舟移入水平式炉体中进行工艺加工，工艺过程结束后硅片被卸下。 5.2.2带软着陆系统的装卸机：当管门打开后，装卸机将桨移入水平式炉体的工艺炉管中。 给工艺舟放上硅片，随后装卸机退回。管门气动关闭。选取的工艺程序启动并开始加工。加工完毕后，管门打开，桨移入工艺炉管中取出带加工好的硅片的工艺舟。 5.2.3推车：在工艺中用一部推车来手动将工艺舟移入设备中进行加工，以及在加工 结束后将工艺推车及工艺舟移出设备，推车锁定在设备中用作加工后冷却工艺舟的存放处。 5.2.4工控机：控制实现装卸舟功能等 5.2.5工艺舟：用来在热化学工艺过程中作为硅片的机械承载器，工艺舟用石墨制作。 5.2.6水平式炉体：包括热电偶、加热电偶、炉体 5.2.7加热柜：划分为不同的加热区，各加热区的温度可通过控制器分别设定。每个加热区均配备1个外部热电偶，与温度测量器连接，外部热电偶安装在一个陶瓷管中。该陶瓷管通过一个陶瓷管罩插入到加热箱中。成型热电偶(选项)位于

GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 5 / 13 工艺炉管中，用一个石英管罩保护。它们用来测量工艺炉管内每个加热区的内部温度。成型热电偶安装在一个陶瓷管中。在每个加热区，陶瓷管带有一个钻孔，成型热电偶通过它来测量温度。加热箱的运行可采用内部和/或外部温度控制。 5.2.8工艺炉管：水平式炉体的每一层均有一个带一个工艺炉管的加热箱，热化学加工在此工艺炉发生，工艺炉管用石英制作。 5.2.9炉管密封门：炉管密封门用来关闭毒性气体抽排装置(TGA)中的工艺炉管。系统中采用真空炉管密封门。工艺炉管的背面是根据具体工艺对炉管的要求而制作的。在 PECVD工艺中，工艺炉管被一个后法兰关闭。 5.2.10功率电子器件：安装在水平式炉体第一层的下面。一个空气冷却循环用来消散变压器产生的废热，一个用作层热交换器的空气-水热交换器安装在水平式炉体的顶层上。以减小加热箱的热量，避免加热箱的温度过高。冷却器安装在最上面的层的上方。主风扇安装在冷却器的背面，以便将加热箱上方的热空气向上拉。 5.2.11气柜：用户公司内部的供应系统获得气体，并将气体分配给扩散系统中的各个层面 5.2.12毒性气体抽排装置（TGA）：用来吸取装卸过程中或出现故障时排放出来的气体。炉管密封门区域的气体抽排系统由分开通风的不锈钢室组成。可用一个滑动控制器来为每个腔室设定排放量。 5.2.13射频电源 5.2.13.1射频电源开关 5.2.13.2主电源接线盒

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■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 11 / 13 5.4.6温度图况 系统图况元器件名称(见下页分布) 1. N2阀 6后氨气输出 11.炉门关 16.CDA手动阀 B.管内低压，超压指示 C.全真空压力计 D.薄膜硅压力E.平移马达H.炉体5点温0—2000mbar 计 位置显示 度 0—10000mtor 5.4.7曲线图况 5.4.8历史曲线 5.5 工艺流程：每个工艺程序通过工艺参数预先设定工艺流程，如加热速度和冷却速度、工艺温度、气体和气体流速、停顿时间等。以下是一个典型的步骤序列概览：

2. N2常闭 3后硅烷旁4后硅烷输出 5后氨气旁路 路 7前硅烷旁路 8前硅烷输9前氨气旁路 10前氨气输入 入 12.炉门开 17.排气阀 13.N2手动14.SiH4手动15.NH3手动阀 阀 阀 18.主抽阀 19.蝶阀 A.射频电源 X. N2流量计 Y. SiH4流Z. NH3流量计 F.上下马达位置 量计 G工艺倒计时显示 GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 12 / 13 5.5.1 炉装料过程：工艺舟装上了硅片后与桨一起移入工艺炉管中。工艺舟下降然后桨移出工艺炉管，工艺炉管关闭。 5.5.2 抽空：工艺炉管中的全部气体被真空泵抽空。 5.5.3 N2 清洁/抽空循环：重复执行一个清洁/抽空循环。循环次数、时间、氮以及工艺炉管中所需压力均保存在工艺程序中。用抽空结束过程。在此期间，工艺炉管中的温度受控制，并被设定到温度设定值 5.5.4 反应阶段：工艺炉管注入工艺气体。调节到设定的温度及等离子状态，硅片上发生所需的反应。在工艺过程中，工艺气体按设定的时间长度输送入工艺炉管中。流经工艺炉管后，工艺气体被导入一个气体抽排系统。从那里再输入到外部抽排系统中工艺炉管中所需压力均在工艺程序中设定。用 N2 清洁结束过程。 5.5.5 N2 清洁/抽空循环：重复执行一个清洁/抽空循环。循环次数、时间、氮以及硅烷 5.5.6 炉卸料过程：装卸机将桨移入工艺炉管，并抬升装有硅片的工艺舟。桨被移出工艺炉管。 5.6真空泵的参数设置 5.6.1 770H：真空泵运行时间用于泵维护时的时间记录 5.6.2 REM：真空泵在远程监控， 5.6.3 如显示LOC：本地控制状态 5.6.4 ADP POWER：ADP泵功率 5.6.5 PRESSURE：排气口附近气压 5.6.6 ADP TEMP：ADP泵温度 5.6.7 N2 FLOW N2流量

GM-012B ■Q □E □S 文件名称 文件编号：EM-EOP-109 校订版别：B PECVD工段捷佳伟创设备操作规范 页次/总页次： 13 / 13 5.7开/关机作业程序 5.7.1开机作业程序 5.7.1.1开机时机：于设备计划保养维修后或不正常关机后 5.7.1.2开机动作： 5.7.1.2.1打开设备所需的气体并检查抽风、确认； 5.7.1.2.2打开设备所需的冷却水并确认； 5.7.1.2.3打开设备电源； 5.7.1.2.4打开CMI控制电脑； 5.7.1.2.5升温； 5.7.1.2.6待机； 5.7.2关机作业程序 5.7.2.1关机时机：于设备计划保养维修前或异常需求前； 5.7.2.2关机动作： 5.7.2.2.1将设备上产品全部清空并使设备处于待机状态； 5.7.2.2.2降温 5.7.2.2.3关闭各面板电源； 5.7.2.2.4关闭各控制开关； 5.7.2.2.5关闭冷却水，设备所需气体; 5.7.2.2.6闭电源总开关。 6.参考文件 无 7.附件 无

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