纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用 - 吴改红刘淑强郭红霞董华肖云超孙卜昆戴晋明 - 图文
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第33卷第3期2014年3月
硅酸盐通报
BULLETINOFTHECHINESECERAMICSOCIETY
Vol.33No.3March,2014
纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用
1,222
吴改红,刘淑强,郭红霞,董
2222
华,肖云超,孙卜昆,戴晋明
(1.东华大学服装艺术设计学院,上海200051;2.太原理工大学轻纺工程学院,太原030024)
550对纳米SiO2进行表面修饰。防止团聚,提高分散性,应用硅烷偶联剂KH-摘要:为了降低纳米SiO2的表面能,
550用量、分析KH-反应时间对纳米SiO2修饰效果的影响关系,并应用SEM对纳米SiO2修饰前后形貌进行观测,550用量5%,DSC对聚乳酸/纳米SiO2复合材料进行表征。结果得出纳米SiO2最佳修饰工艺为:KH-应用SEM、反应时间2h。最优工艺修饰的纳米SiO2结构松散,在聚乳酸中分散均匀,复合体系的玻璃化转变温度提高了4.29℃,玻璃化转变温度处的热焓提高了2.431J/g。关键词:纳米SiO2;硅烷偶联剂;表面修饰;聚乳酸中图分类号:O64
文献标识码:A
1625(2014)03-0506-05文章编号:1001-
SurfaceModificationofNano-SiO2andApplicationinthe
PolyLacticAcid(PLA)
2
WUGai-hong1,,LIUShu-qiang2,GUOHong-xia2,DONGHua2,XIAOYun-chao2,
SUNBu-kun2,DAIJin-ming2
(1.Fashion&ArtDesignInstitute,DonghuaUniversity,Shanghai200051,China;2.CollegeofTextileEngineering,TaiyuanUniversityofTechnology,Taiyuan030024,China)
Abstract:Inordertoreducethesurfaceenergyofnano-SiO2andpreventtheirreunion,andimproveitsdispersion,thesilanecouplingagentKH-550wasappliedtomodifythesurfaceofnano-SiO2.Theinfluencesofmodifiedconditions,includingthedosageofKH-550andthereactiontime,onthesedimentationvolumeandwaterabsorptionofnano-SiO2,wereanalyzed.Thescanningelectronmicroscopy(SEM)wasappliedtoobservethesurfaceofnano-SiO2modifiedornot,thentheSEMandDSCwereappliedtoanalyzethePLA/nano-SiO2composite.Theresultshowsthatthebestmodifiedconditionsare5%dosageofKH-550and2hreactiontime.Andthestructureofnano-SiO2modifiedunderthebestmodifiedconditions,islooseanddispersedevenlyinthePLA.Theglasstransitiontemperatureofcompositegrowsupby4.3℃andthethermalenthalpyattheglasstransitiontemperatureincreasesby2.431J/g.
Keywords:nano-SiO2;silanecouplingagent;surfacemodification;polylacticacid(PLA)
1引言
纳米SiO2是一种白色、无毒、无定形微细粉状物,具有多孔性、高分散性、质轻、化学稳定性好、耐高温、
2013T020,2013T021,2013T022);基金项目:山西省高等学校大学生创新创业训练项目(2013067);太原理工大学校基金项目(2012L074,
太原理工大学教育教学改革项目(201330)
),作者简介:吴改红(1978-讲师.主要从事纺织服装材料研究.女,博士研究生,mail:liushuqiang8866@126.com通讯作者:刘淑强.E-
第3期吴改红等:纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用
[1,2]
507
电绝缘性好等优异性能,是重要的精细无机化工产品不燃烧、。纯粹制备的纳米SiO2粉体由于粒径极
彼此之间会因巨大的表面能而团聚在一起,形成粒径较大的二次粒子,而且纳米SiO2表面小,比表面积大,
存在着大量的羟基基团,呈强亲水性,众多的颗粒相互联结成链状,链状结构彼此又以氢键相互作用,形成由SiO2分子间作用力很强,纳米SiO2在与高粘度的聚乳酸聚集体组成的网状结构。在这种立体网状结构中,
[3](PLA)等聚合物混合过程中极难均匀分散,颗粒的纳米效应很难发挥出来。因此,必须对纳米SiO2进行[4,5]
。众多学者采用甲基丙烯酰氧基丙表面修饰,降低其表面能,提高纳米SiO2与PLA的相容性和结合力[6]
基三甲氧基硅烷(MEMO)、乙烯基三甲氧基硅烷(VTMO)、正丙基三甲氧基硅烷(PTMO)
[7]
、氨基硅烷偶
联剂(APS)
[8]
[9][10]
、甲基三乙氧基硅烷(MTES)、巯基硅烷、乙烯基硅烷和氨基硅烷偶联剂等来修饰纳米
SiO2,550修饰纳米SiO2的修饰工艺及机理分析尚待深入研究,而应用偶联剂KH-同时应用纳米SiO2与PLA550对纳米SiO2进行表面修饰,研究偶联剂用量、制成复合材料的相关报道尚少。本文应用硅烷偶联剂KH-反应时间对修饰效果的影响关系,并对PLA/纳米SiO2复合材料进行了研究。
2实验
将纳米SiO2(粒径:20~280nm,上海百森延令纳米科技有限公司)在120℃真空干燥箱中烘4h,密封550放入烧杯中,待用。称取一定质量的硅烷偶联剂KH-然后加入无水乙醇15mL,用0.1mol/L的HCl调70℃下恒温水浴锅中预水解30min,然后超声振荡1节pH值为5~6,称取2gSiO2粉体加入到水解溶液中,
h(温度25℃,功率70%),最后放入鼓风干燥箱中80℃烘去大部分水分,再放入真空干燥箱中一定温度下烘干一定时间,取出经球磨仪研磨,制得修饰后的纳米SiO2粉末。将修饰后的纳米SiO2与PLA经双螺杆挤出机熔融挤出制成标准样品,其中纳米SiO2含量占3wt%。
沉降体积测试:称取0.2g纳米SiO2放入量筒(10mL刻度)中,加入5mL二甲苯,充分振荡后观察粉体的沉降情况,每隔30s记录一次沉降体积。吸水率测定:将1.000g修饰后的纳米SiO2均匀铺洒在表面皿上,然后放入盛有适量水的干燥器中,放置一定时间后,称量并计算粉体增加的质量m,吸水率则为W=(m/1.000)×100%。扫描电镜分析(SEM):扫描电子显微镜(JSM-6700F,日本电子,10kV)。差示扫描量热分升温速度10℃/min,温度测定条件:氮气氛围,析(DSC):差示扫描量热仪(DSCQ100V9.4Build287型),变化范围10~210℃。
3
3.1
结果与讨论
KH-550用量对修饰效果的影响
550用量修饰的纳米SiO2的沉降吸水率两个指标来衡量。不同KH-纳米SiO2的修饰效果以沉降体积、
体积变化见图1,吸水率测试结果见图2。KH-550用量为2%与5%时沉降体积折线基本重合,由图1可知,沉降体积最大,其它用量的沉降体积
10%~30%用量的沉降体积甚至小于0%用量(未修饰处理)的沉降体积。在有机溶剂中,都较小,沉降体积550处理的SiO2粉体沉降体越大,表明该物质的亲油性越强,在有机相中的分散性就越好,用2%和5%KH-积最大,说明其亲油性强,在有机相中的分散性比未经偶联剂修饰的(用量0%)SiO2好;大于等于10%用量550用量超过10%后,的SiO2的沉降体积反而小于0%用量(未经修饰)的,说明当KH-并没改善SiO2的亲油性,反而恶化,使SiO2分散性下降。可知偶联剂的加入量并不是越多越好,而有一个最佳用量。未修饰的纳米SiO2的沉降体积较小,粒子经碰撞是因为它的表面具有亲水性基团,在二甲苯溶剂中难以润湿和分散,而粘连成为大的团聚体,沉降速度较快,小颗粒被沉降较快的大粒子所夹带;而修饰后的纳米SiO2由于表面
吸附的修饰剂使其表面呈现亲有机体特性,且表面能降低,在二甲苯中倾向于分散均匀,其沉降速度较慢,沉降体积较大;但是偶联剂过多反而会在微粒间搭桥造成絮凝,使得微粒粒径增加,稳定性变差,沉降速度反而变快,使其沉降体积变小,修饰效果变差。
508专题论文硅酸盐通报第33卷
图1550用量修饰的纳米SiO2的沉降体积不同KH-Fig.1
Sedimentationvolumeofnano-SiO2
modifiedbydifferentdosageofKH-550
图2550用量修饰的SiO2的吸水率不同KH-Fig.2
Waterabsorptionofnano-SiO2
modifiedbydifferentdosageofKH-550
550用量的增加,SiO2的吸水率先急剧减小,随KH-吸水率变化减缓,到达由图2可知,达到5%用量后,
50%用量后的SiO2,550用量的随着KH-吸水率基本不再降低。由于纳米SiO2的吸水率源于其表面的羟基,从而纳米SiO2表面的羟基越少,吸水率越小。增加,偶联剂取代纳米SiO2表面的羟基越多,
550的用量选在5%比较适宜。综合偶联剂用量对沉降体积和吸水率的影响分析,硅烷偶联剂KH-3.2
KH-550修饰反应时间对修饰效果的影响
反应时间指的是SiO2与硅烷偶联剂混合后在真空烘箱中的反应时间。在偶联剂用量为5%,反应温度
为120℃条件下,对不同反应时间制得的SiO2进行沉降体积、吸水率测试。不同反应时间制得的SiO2的沉降体积测试结果见图3,吸水率测试结果见图4。
图3不同反应时间制得的纳米SiO2的沉降体积Fig.3
Sedimentationvolumeofnano-SiO2modifiedindifferentreactiontime
图4不同反应时间制得的纳米SiO2的吸水率Fig.4
Waterabsorptionofnano-SiO2
modifiedindifferentreactiontime
5h的次之,2h反应时间制得的SiO2的沉淀体积最大,8h、11h、14h的沉淀体积较小;随由图3可知,
KH-550对SiO2修饰的合理时间为2h。由图4可时间延长,沉降体积呈现下降的趋势。仅考虑沉降体积,
知,反应时间为5h时的吸水率最小;其次是2h时的吸水率较小。吸水率越小说明修饰效果越好,所以仅考虑吸水率,反应时间为5h时,纳米SiO2的修饰效果最好;超过5h后,吸水率有增加的趋势,可能由于反应
550有所破坏,SiO2表面的羟基有所表露,易吸附水分子,时间过长,包覆在外的偶联剂KH-所以吸水率高。
反应时间过短,偶联剂不能充分的对纳米SiO2进行修饰,达不到理想的疏水效果;而反应时间过长,修饰效果不明显,且能耗大,产品成本高,生产效率低,因此,从沉降体积和吸水率综合考虑,最佳的反应时间应选为2h。3.3纳米SiO2的形貌
见图5。应用扫描电镜,对未修饰纳米SiO2和最佳工艺修饰后的纳米SiO2的形貌进行观测,
550修饰后的SiO2结构松散,从图5a中可以看出未修饰的SiO2团聚现象严重;图5b显示经5%KH-颗
第3期吴改红等:纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用509
550修饰后的SiO2团聚严重,分散较均匀;图5c表明经10%KH-颗粒很大,分散不匀。这是由于未粒明显,
修饰的SiO2表面富含羟基,在氢键作用下,颗粒间形成接枝现象,使得SiO2团聚严重,粒径较大,粒度分布550处理后,不均匀;而纳米SiO2粒子经适量(如5%)偶联剂KH-表面部分羟基被偶联剂有机链取代,表面羟基减少,使得原来由氢键缔合造成的团聚现象减弱,使粒子达到较好的分散;但应用过量(如10%)的偶联550修饰纳米SiO2,剂KH-修饰效果不明显。偶联剂反而会在SiO2微粒之间起到搭桥粘连的作用,
图5Fig.5
550修饰;(c)10%KH-550修饰纳米SiO2的SEM形貌(×10000):(a)未修饰;(b)5%KH-SEMimagesofnano-SiO2(a)unmodified;(b)modifiedby5%KH-550;(c)modifiedby10%KH-550
3.4
PLA/SiO2复合材料形貌与热性能
550修饰后的纳米SiO2在聚乳酸基体中图6为PLA/SiO2复合材料断面SEM形貌,由图可看出,经KH-分布均匀、粒径小(粒径在1~100nm为多,极少量在100~500nm范围)。图7为纯PLA和复合材料的DSC曲线,经测量,纯PLA的玻璃化转变温度Tg为61.80℃,熔点Tm为167.09℃;PLA/3wt%纳米SiO2复
合材料的玻璃化转变温度Tg为66.09℃,熔点Tm为168.10℃;可知,复合材料的玻璃化转变温度要比纯
PLA高4.29℃,可见加入3wt%纳米SiO2对提高聚乳酸的耐热性是有效的;但加入3wt%纳米SiO2对聚乳酸的熔点影响不大;由图7还可知,复合材料在玻璃化转变温度Tg处的热焓为6.881J/g,比纯PLA在此处的热焓4.444J/g要高很多,这说明要使复合材料软化所需的热量更多,说明纳米SiO2的加入起到了提高PLA耐热性的效果。
图63wt%SiO2/PLA复合材料断面SEM形貌(×3000)Fig.6
SEMimageof3wt%SiO2/PLAcomposite
图7Fig.7
纯PLA和PLA/SiO2复合材料的DSC曲线DSCcurvesofpurePLAandPLA/SiO2composite
4结论
550修饰纳米SiO2的最佳修饰工艺为:KH-550的用量为5%,(1)偶联剂KH-反应时间2h。修饰后的纳米SiO2结构松散,颗粒明显,分散均匀;
(2)修饰后的纳米SiO2在聚乳酸基体中分散均匀,颗粒小。复合材料玻璃化转变温度提高了4.29℃;玻璃化转变温度处的热焓提高了2.431J/g。
510专题论文硅酸盐通报第33卷
参
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