光纤通信技术_03通信用光器件

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光导纤维通信简称,原理是利用光导纤维传输信号,以实现信息传递的一种通信方式。实际应用中的光纤通信系统使用的不是单根的光纤,而是许多光纤聚集在一起的组成的光缆。

第 3 章 通信用光器3.1 光源3.2 光检测器 3.3 光无源器件

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光导纤维通信简称,原理是利用光导纤维传输信号,以实现信息传递的一种通信方式。实际应用中的光纤通信系统使用的不是单根的光纤,而是许多光纤聚集在一起的组成的光缆。

第 3 章 通信用光器件通信用光器件可以分为有源器件和无源器件两种类型。

有源器件包括光源、光检测器和光放大器,这些器件是光发射机、 光接收机和光中继器的关键器件,和光纤一起决定着 基本光纤传输系统的水平。光无源器件主要有连接器、耦合

器、波分复用器、调制器、光开关和隔离器等,这些器件对光纤通信系统的构成、功能的扩展和性能的提高都是不可缺 少的。  本章介绍通信用光器件的工作原理和主要特性, 为系统 的设计提供选择依据。

光导纤维通信简称,原理是利用光导纤维传输信号,以实现信息传递的一种通信方式。实际应用中的光纤通信系统使用的不是单根的光纤,而是许多光纤聚集在一起的组成的光缆。

3.1光源光源是光发射机的关键器件,其功能是把电信号转换 为光信号。目前光纤通信广泛使用的光源主要有半导体激 光二极管或称激光器(LD)和发光二极管或称发光管(LED),

有些场合也使用固体激光器,例如掺钕钇铝石榴石(Nd:YAG)激光器。  本节首先介绍半导体激光器 (LD) 的工作原理、基本结 构和主要特性,然后进一步介绍性能更优良的分布反馈激 光器(DFB - LD),最后介绍可靠性高、寿命长和价格便宜的 发光管(LED)。 

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3.1.1半导体激光器工作原理和基本结构半导体激光器是向半导体PN结注入电流, 实现粒子数反 转分布,产生受激辐射,再利用谐振腔的正反馈,实现光放大 而 产 生 激 光 振 荡 的 。 激 光 , 其 英 文 LASER 就 是 Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation(受激辐射的光 放大 ) 的缩写。所以讨论激光器工作原理要从受激辐射开始。  1. 受激辐射和粒子数反转分布

有源器件的物理基础是光和物质相互作用的效应。在物质的原子中,存在许多能级,最低能级E1称为基态,能量比基态 大的能级Ei(i=2, 3, 4 …)称为激发态。电子在低能级E1的基态和 高能级E2的激发态之间的跃迁有三种基本方式(见图3.1): 

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E2 h f1 2 E1

初态 h f1 2

E2

终态 h f1 2

h f1 2

E1 (a) (b) (c)

图 3.1能级和电子跃迁

(a) 受激吸收; (b) 自发辐射; (c) 受激辐射

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(1) 在正常状态下,电子处于低能级E1,在入射光作用下,

它会吸收光子的能量跃迁到高能级E2上,这种跃迁称为受激吸收。电子跃迁后,在低能级留下相同数目的空穴 ,见图  3.1(a)。  (2) 在高能级E2的电子是不稳定的,即使没有外界的作用, 也会自动地跃迁到低能级E1上与空穴复合,释放的能量转换为

光子辐射出去,这种跃迁称为自发辐射,见图3.1(b)。 (3) 在高能级E2的电子,受到入射光的作用,被迫跃迁到 低能级E1上与空穴复合,释放的能量产生光辐射,这种跃迁称 为受激辐射,见图3.1(c)。 

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受激辐射是受激吸收的逆过程。 电子在E1和E2两个能

级 之间跃迁,吸收的光子能量或辐射的光子能量都要满足波尔条 件,即



E2-E1=hf12 (3.1)

式中, h=6.628×10-34J·s ,为普朗克常数, f12 为吸收或辐射的 光子频率。  受激辐射和自发辐射产生的光的特点很不相同。受激辐射 光的频率、相位、偏振态和传播方向与入射光相同,这种光称 为相干光。自发辐射光是由大量不同激发态的电子自发跃迁产 生的,其频率和方向分布在一定范围内,相位和偏振态是混乱 的,这种光称为非相干光。 

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产生受激辐射和产生受激吸收的物质是不同的。 设在单 位物质中,处于低能级E1和处于高能级E2(E2>E1)的原子数分别

为N1和N2。当系统处于热平衡状态时,存在下面的分布式中, k=1.381×10-23J/K,为波尔兹曼常数,T为热力学 温度。由于 (E2-E1)>0 , T>0 ,所以在这种状态下,总是 N1>N2 。 这是因为电子总是首先占据低能量的轨道。受激吸收和受激辐 射的速率分别比例于N1和N2,且比例系数(吸收和辐射的概率)

相等。如果N1>N2,即受激吸收大于受激辐射。当光通过这种物质时,光强按指数衰减, 这种物质称为吸收物质。

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如果 N2>N1 ,即受激辐射大于受激吸收,当光通过这种 物质时,会产生放大作用,这种物质称为激活物质。 N2>N1 的分布,和正常状态 (N1>N2) 的分布相反,所以称为粒子 ( 电 子)数反转分布。问题是如何得到粒子数反转分布的状态呢 ? 这个问题将在下面加以叙述。  2. PN结的能带和电子分布 半导体是由大量原子周期性有序排列构成的共价晶体。 在这种晶体中,由于邻近原子的作用,电子所处的能态扩展 成能级连续分布的能带,如图3.2。能量低的能带称为价带, 能量高的能带称为导带,导带底的能量Ec和价带顶的能量Ev 之间的能量差 Ec-Ev=Eg 称为禁带宽度或带隙。电子不可能占 据禁带。

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能量 Eg /2 Eg Eg /2

导带 Ec Ef Ev 价带 (b) Eg Ev Ec Ef Eg Ec

Ef Ev

(a)

(c)

图 3.2半导体的能带和电子分布

(a) 本征半导体; (b) N型半导体; (c) P型半导体

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图 3.2 示出不同半导体的能带和电子分布图。根据量子统 计理论,在热平衡状态下,能量为E的能级被电子占据的概率 为费米分布

1 p( E ) E Ef 1 exp( ) kT

式中, k 为波兹曼常数, T 为热力学温度。当 T→0 时, P(E)→0, 这时导带上几乎没有电子,价带上填满电子。E

f称为费米能级,用来描述半导体中各能级被电子占据的状态。在费米能级,被电子占据和空穴占据的概率相同。 

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内部电场 PN 结空 间电 荷区 扩散 漂移 能量 E p c P区 Ef N区 Ep v p

P区

N区 (a)

Ec

n

势垒

(b)

E

n v

Ec

Ec hf Ep f p v

n n f

hf

E

E

(c) E 内部电场 外加电场 电子

, 空穴n v

图 3.3PN结的能带和电子分布(a) P - N结内载流子运动;(b) 零偏压时P - N结的能带图;  (c) 正向偏压下P - N结能带图

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一般状态下,本征半导体的电子和空穴是成对出现的, 用 Ef 位于禁带中央来表示,见图 3.2(a) 。在本征半导体中掺 入施主杂质,称为 N 型半导体。在 N 型半导体中, Ef 增大, 导带的电子增多, 价带的空穴相对减少,见图3.2(b)。在本 征半导体中,掺入受主杂质,称为P型半导体。在P型半导体 中,Ef减小,导带的电子减少,价带的空穴相对增多,见图 3.3(c)。 在P型和N型半导体组成的PN结界面上, 由于存在多数 载流子(电子或空穴)的梯度,因而产生扩散运动,形成内部 电场, 见图3.3(a)。内部电场产生与扩散相反方向的漂移运 动,直到 P 区和 N 区的 Ef 相同,两种运动处于平衡状态为止, 结果能带发生倾斜,见图3.3(b)。这时在PN结上施加正向电 压,产生与内部电场相反方向的外加电场,结果能带倾斜减 小,扩散增强。

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电子运动方向与电场方向相反,便使 N 区的电子向 P 区运 动, P区的空穴向 N 区运动,最后在 PN 结形成一个特殊的增益 区。增益区的导带主要是电子,价带主要是空穴,结果获得粒 子数反转分布,见图3.3(c)。在电子和空穴扩散过程中,导带的 电子可以跃迁到价带和空穴复合,产生自发辐射光。 

3. 激光振荡和光学谐振腔粒子数反转分布是产生受激辐射的必要条件,但还不能产

生激光。只有把激活物质置于光学谐振腔中,对光的频率和方向进行选择,才能获得连续的光放大和激光振荡输出。

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基本的光学谐振腔由两个反射率分别为 R1 和 R2 的平行反 射镜构成  ( 如图 3.4 所示 ) ,并被称为法布里 - 珀罗 (Fabry Perot, FP)谐振腔。由于谐振腔内的激活物质具有粒子数反转分 布,可以用它产生的自发辐射光作为入射光。入射光经反射镜 反射,沿轴线方向传播的光被放大,沿非轴线方向的光被减弱。

反射光经多次反馈,不断得到放大,方向性得到不断改善,结果增益大幅度得到提高。  另一方面,由于谐振腔内激活物质存在吸收, 反射镜存 在透射和散射,因此光受到一定损耗。当增益和损耗相当时, 在谐振腔内开始建立稳定的激光振荡, 其阈值条件为

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反射镜

光的振幅

反射镜 光 强 初 始 位 置 光

2n L (a)

输出 O X (b) L

图 3.4激光器的构成和工作原理

(a) 激光振荡; (b) 光反馈

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γth=α+

1 1 ln 2 L R1R2

式中,γth为阈值增益系数,α为谐振腔内激活物质的损耗

系数,L为谐振腔的长度,R1,R2<1为两个反射镜的反射率激光振荡的相位条件为

L=q 或 2nL 2n q式中,λ为激光

波长,n为激活物质的折射率,q=1, 2, 3 … 称为纵模模数。  4. 半导体激光器基本结构

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半导体激光器的结构多种多样,基本结构是图 3.5示出的双异质结 (DH) 平面条形结构。这种结构由三层不同类型半导 体材料构成,不同材料发射不同的光波长。图中标出所用材

料和近似尺寸。结构中间有一层厚 0.1~0.3 μm的窄带隙P型半导体,称为有源层;两侧分别为宽带隙的 P型和N型半导体, 称为限制层。三层半导体置于基片(衬底)上,前后两个晶体解 理面作为反射镜构成法布里 - 珀罗(FP)谐振腔。 图3.6示出DH激光器工作原理。由于限制层的带隙比有源

层宽,施加正向偏压后, P层的空穴和N层的电子注入有源层。P层带隙宽, 导带的能态比有源层高,对注入电子形成了势垒, 注入到有源层的电子不可能扩散到P层。同理,注入到有源层

的空穴也不可能扩散到N层。 

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(a)

+

P Ga1 - Al As x x

P GaAs

N Ga1 - Al As y y 电子

-

(b)

E 能 量

复合

空穴 n 折 射 率

异质势垒

(c)

~5 %

(d)

P 光

图 3.6DH激光器工作原理 (a) 短波长; (b) 长波长 (a) 双异质结构; (b) 能带; (c) 折射率分布; (d) 光功率分布

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P层带隙宽,导带的能态比有源层高,对注入电子形成了 势垒,注入到有源层的电子不可能扩散到P层。 同理, 注入到 有源层的空穴也不可能扩散到 N层。这样,注入到有源层的电 子和空穴被限制在厚0.1~0.3 μm的有源层内形成粒子数反转分 布,这时只要很小的外加电流,就可以使电子和空穴浓度增大

而提高效益。另一方面,有源层的折射率比限制层高,产生的激光被限制在有源区内,因而电 / 光转换效率很高,输出激光 的阈值电流很低,很小的散热体就可以在室温连续工作。 

本文来源:https://www.bwwdw.com/article/j68j.html

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