一篇 3章
更新时间:2023-12-20 19:30:01 阅读量: 教育文库 文档下载
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第三章 场效应晶体管及其电路分析
题1.3.1 绝缘栅场效应管漏极特性曲线如图题1.3.1(a)~(d)所示。 (1) 说明图(a)~(d)曲线对应何种类型的场效应管。
(2) 根据图中曲线粗略地估计:开启电压VT、夹断电压VP和饱和漏极电流IDSS或IDO
的数值。
图题1.3.1
解: (1)(a)增强型N沟道MOS管,VGS(th)≈3V,IDO≈3mA;
(b)增强型P沟道MOS管,VGS(th)≈2V,IDO≈2mA; (c)耗尽型型P沟道MOS管,VGS(off)≈2V,IDSS≈2mA; (d)耗尽型型N沟道MOS管,VGS(off)≈2V,IDSS≈3mA。
题1.3.2 场效应管漏极特性曲线同图题1.3.1(a)~(d)所示。分别画出各种管子对应的转移特性曲线iD=f(vGS)。
解: 在漏极特性上某一VDS下作一直线,该直线与每条输出特性的交点决定了VGS和ID的大
小,逐点作出,连接成曲线,就是管子的转移特性了。
图题1.3.3
题1.3.3 图题1.3.3所示为场效应管的转移特性曲线。试问:
(1) IDSS、VP值为多大?
(2) 根据给定曲线,估算当iD=1.5mA和iD=3.9mA时,gm约为多少?
(3)
根据gm的定义:gm?diDdvGS,计算vGS= -1V和vGS= -3V时相对应的gm值。
解: (1) IDSS=5.5mA,VGS(off)=-5V;
(2) ID=1.5mA时,gm≈0.88ms,ID=3.9mA时,gm≈1.76ms; (3) VGS=-1V时,gm≈0.88ms,VGS=-3V时,gm≈1.76ms
题1.3.4 由晶体管特性图示仪测得场效应管T1和T2各具有图题1.3.4的(a)和(b)所示的输出 特性曲线,试判断它们的类型,并粗略地估计VP或VT值,以及vDS=5V时的IDSS或 IDO值。
图题1.3.4
解: 图(a)耗尽型PMOS管,VGS(off)=3V;当VDS=5V时,IDSS=2mA;
图(b)增强型PMOS管,VGS(th)=-4V;当VDS=5V时,IDO≈1.8mA。
题1.3.5 某MOS场效应的漏极特性如图题1.3.5所示。试画出vDS=9V时的转移特性曲线,并定性分析跨导gm与ID的关系。
图题1.3.5 图题1.3.6
解: 在VDS=9V处作一垂直线,交各VGS下的输出特性,各交点决定了VGS和ID,从而逐点描绘转移特性曲线。从转移特性曲线的某一点作切线,可得gm的大小。
题1.3.6 由MOS管组成的共源电路如图题1.3.6所示,其漏极特性曲线同图题1.3.5。 (1) 试分析当vI=2V、4V、8V、10V、12V时,该MOS管分别处于什么工作区。 (2) 若vI=8+6sinωt(V),试画出iD和vO(vDS)的波形。
解: (1)VI=2V,4V时,MOS管工作在截止区;
VI=6V,8V时,MOS管工作在恒流区(放大区);
VI=10V,12V时,MOS管工作在可变电阻区; (2)图略。
题1.3.7 由N沟道增强型MOSFET构成的共源电路如图题1.3.7(a)所示,MOS管漏极特性曲线如图(b)所示,试求解该电路的静态工作点Q(注意图中VGS=VDS)。
图题1.3.7
解: 解题思路为:由VGS=VDS作出场效应管的I-V特性,将VDS=VDD-IDRd=15-1.5Id负载线方程作在I-V特性上并交于一点,就可决定ID,VDS,VGS参数。
题1.3.8 在图题1.3.8所示的电路中,设N沟道JFET的IDSS =2mA,VP= -4V。试求ID和VDS。
解:由 图题1.3.8
VDS?VDD?ID(Rd?Re)VGS2) ID?IDSS(1?VGS(off)VGS?IDRs
求得:ID?0.5mAVGS?10V
题1.3.9 总结各种类型FET的偏置条件:
(1) 说明场效应管处于可变电阻区,恒流区(放大区)和截止区的主要特征(指vDS、vGS
和iD)。
(2) 为保证工作于放大区,vDS和vGS的极性应如何设置?[在题表1.3.9(a)和题表1.3.9
(b)中打“√ ”]。
解: (1)可变电阻区:场效应管的沟道尚未预夹断,VDS<VGS-VGS(th),
ID随VDS增加而较快增加。
恒流区:场效应管的导电沟道被预夹断,VDS>VGS-VGS(th),VGS>VGS(th),ID基本不随VDS增加而增大。
截止区:场效应管的沟道被完全夹断,VGS<VGS(th),ID=0,VDS=VDD (注:指增强型NMOS管,其它类型只要注意电源极性,同样可以给出) (2)表题1.3.9-1 表题1.3.9-2 N沟道 P沟道 VDS极性 + - 耗尽型 VGS与VDS极性异同 结 型 相 反 MOS 可同 可反
增强型 MOS 相 同
题1.3.10 图题1.3.10(a)所示为N沟道场效应管在可变电阻区的输出特性。当要求将其作为压控电阻时,可接成图(b)所示的电路形式。若要求该电路得到1/3的分压比(VO/VI=1/3),应选择多大的VGG?
图题1.3.10 解: 因
VOVI?13
,所以V0=VDS=0.5V,
ID=(1.5V-0.5V)/6K≈0.167mA,由VDS、ID可从特性曲线上求得VGG≈1.0V。 题1.3.11 图题1.3.11所示电路中,已知FET的IDSS=2mA,VP= -2V。 (1) 求ID=2mA时RS的取值范围; (2) 求RS=20kΩ时的ID值。
解: (1)当考虑VDS=1V时,Rs=0~9.5kΩ
(2)ID≈1mA
题1.3.12 在图题1.3.12(a)所示的放大电路中,设输入信号vS的波形和幅值如图中所示,JET的特性如图题1.3.12(b)所示,试用图解法分析: (1) 静态工作点:VGSQ、IDQ、VDSQ;
(2) 在同一个坐标下,画出vS、iD和vDS的波形,并在波形图上标明它们的幅值。
(3) 若VGG改为-0.5V,其它条件不变,重画iD、vDS波形;
(4) 为使VGG= -0.5V时,iD、vDS波形不失真,重新选择Rd的数值和静态时的VDSQ。 解: (1) 图解过程:写出输出回路负载方程VDS=VDD-IDRd=20-1.2ID,将该方程作在题
1.3.12(b)图的特性曲线上与VGG=-1V的输出特性相交于Q点,从而求得 VGSQ=VGG,VDSQ,IDQ等;
(2) 在静态点的基础上,画出υs,iD和υDS的相应波形。
图题1.3.12
题1.3.13 由P沟道结型场效应管组成的电路和它的漏极特性曲线示于图题1.3.13(a)、(b)中。在VI= -10V,R=10kΩ,Rd=5kΩ,VGG分别为0 V,1V,2V,3V时,求电路输出VO值各为多大?
图题1.3.13
解: 在特性曲线上作出输出负载线
|VDS|=|VI|-15ID分别与VGS=0V,1V,2V,3V的输出特性交于一点,决定了此时的ID,再用|VO|=|VI|-IDR求得。
题1.3.14 试用三只电容量足够大的电容器C1、C2、C3,将图题1.3.14所示放大电路分别组成CS、CD和CG组态,并在图中标明各偏置电源和电解电容上的极性,以及信号的输入、输出端子。(在电源前加正、负号,在电解电容正极性端加正号。)
图题1.3.15 图题1.3.14
解:该题的解法与题1.2.13类同,请参照1.2.13题。
题1.3.15 设图题1.3.15所示电路中FET的IDSS =2mA,VP= - 4V,试计算标明在各电路中的电压或电流的大小。
解: 图(a)ID≈1mA图(b)VD≈11.16V。
题1.3.16 在图题1.3.16所示的FET基本放大电路中,设耗尽型FET的IDSS =2mA,VP= - 4V;增强型FET的VT=2V,IDO=2mA。 (1) 计算各电路的静态工作点;
(2) 画出交流通路并说明各放大电路的组态。
图题1.3.16
解: (1)图(a):IDQ≈0.5mA,VGSQ=-2V,VDSQ≈3.8V;
图(b):IDQ≈0.76mA,VGSQ≈-1.5V,VDSQ≈8.5V; 图(c):IDQ≈0.25mA,VGSQ=2.8V,VDSQ≈13V;
(2) 在画交流通路时,将电路图中的电容器,电源画成短路即可
图(a)为共源极放大电路(CS);第三章 场效应晶体管及其电路分析
题1.3.1 绝缘栅场效应管漏极特性曲线如图题1.3.1(a)~(d)所示。 (3) 说明图(a)~(d)曲线对应何种类型的场效应管。
(4) 根据图中曲线粗略地估计:开启电压VT、夹断电压VP和饱和漏极电流IDSS或IDO
的数值。
图题1.3.1
解: (1)(a)增强型N沟道MOS管,VGS(th)≈3V,IDO≈3mA;
(b)增强型P沟道MOS管,VGS(th)≈2V,IDO≈2mA; (c)耗尽型型P沟道MOS管,VGS(off)≈2V,IDSS≈2mA; (d)耗尽型型N沟道MOS管,VGS(off)≈2V,IDSS≈3mA。
题1.3.2 场效应管漏极特性曲线同图题1.3.1(a)~(d)所示。分别画出各种管子对应的转移特性曲线iD=f(vGS)。
解: 在漏极特性上某一VDS下作一直线,该直线与每条输出特性的交点决定了VGS和ID的大
小,逐点作出,连接成曲线,就是管子的转移特性了。
图题1.3.3
题1.3.3 图题1.3.3所示为场效应管的转移特性曲线。试问:
(4) IDSS、VP值为多大?
(5) 根据给定曲线,估算当iD=1.5mA和iD=3.9mA时,gm约为多少?
(6)
根据gm的定义:gm?diDdvGS,计算vGS= -1V和vGS= -3V时相对应的gm值。
解: (1) IDSS=5.5mA,VGS(off)=-5V;
(2) ID=1.5mA时,gm≈0.88ms,ID=3.9mA时,gm≈1.76ms; (3) VGS=-1V时,gm≈0.88ms,VGS=-3V时,gm≈1.76ms
题1.3.4 由晶体管特性图示仪测得场效应管T1和T2各具有图题1.3.4的(a)和(b)所示的输出 特性曲线,试判断它们的类型,并粗略地估计VP或VT值,以及vDS=5V时的IDSS或 IDO值。
图题1.3.4
解: 图(a)耗尽型PMOS管,VGS(off)=3V;当VDS=5V时,IDSS=2mA;
图(b)增强型PMOS管,VGS(th)=-4V;当VDS=5V时,IDO≈1.8mA。
题1.3.5 某MOS场效应的漏极特性如图题1.3.5所示。试画出vDS=9V时的转移特性曲线,并定性分析跨导gm与ID的关系。
图题1.3.5 图题1.3.6
解: 在VDS=9V处作一垂直线,交各VGS下的输出特性,各交点决定了VGS和ID,从而逐点描绘转移特性曲线。从转移特性曲线的某一点作切线,可得gm的大小。
题1.3.6 由MOS管组成的共源电路如图题1.3.6所示,其漏极特性曲线同图题1.3.5。 (3) 试分析当vI=2V、4V、8V、10V、12V时,该MOS管分别处于什么工作区。 (4) 若vI=8+6sinωt(V),试画出iD和vO(vDS)的波形。
解: (1)VI=2V,4V时,MOS管工作在截止区;
VI=6V,8V时,MOS管工作在恒流区(放大区);
VI=10V,12V时,MOS管工作在可变电阻区; (2)图略。
题1.3.7 由N沟道增强型MOSFET构成的共源电路如图题1.3.7(a)所示,MOS管漏极特性曲线如图(b)所示,试求解该电路的静态工作点Q(注意图中VGS=VDS)。
图题1.3.7
解: 解题思路为:由VGS=VDS作出场效应管的I-V特性,将VDS=VDD-IDRd=15-1.5Id负载线方程作在I-V特性上并交于一点,就可决定ID,VDS,VGS参数。
题1.3.8 在图题1.3.8所示的电路中,设N沟道JFET的IDSS =2mA,VP= -4V。试求ID和VDS。
解:由 图题1.3.8
VDS?VDD?ID(Rd?Re)VGS2) ID?IDSS(1?VGS(off)VGS?IDRs
求得:ID?0.5mAVGS?10V
题1.3.9 总结各种类型FET的偏置条件:
(3) 说明场效应管处于可变电阻区,恒流区(放大区)和截止区的主要特征(指vDS、vGS
和iD)。
(4) 为保证工作于放大区,vDS和vGS的极性应如何设置?[在题表1.3.9(a)和题表1.3.9
(b)中打“√ ”]。
解: (1)可变电阻区:场效应管的沟道尚未预夹断,VDS<VGS-VGS(th),
ID随VDS增加而较快增加。
恒流区:场效应管的导电沟道被预夹断,VDS>VGS-VGS(th),VGS>VGS(th),ID基本不随VDS增加而增大。
截止区:场效应管的沟道被完全夹断,VGS<VGS(th),ID=0,VDS=VDD (注:指增强型NMOS管,其它类型只要注意电源极性,同样可以给出) (2)表题1.3.9-1 表题1.3.9-2 N沟道 P沟道 VDS极性 + - 耗尽型 VGS与VDS极性异同 结 型 相 反 MOS 可同 可反
增强型 MOS 相 同
题1.3.10 图题1.3.10(a)所示为N沟道场效应管在可变电阻区的输出特性。当要求将其作为压控电阻时,可接成图(b)所示的电路形式。若要求该电路得到1/3的分压比(VO/VI=1/3),应选择多大的VGG?
图题1.3.10 解: 因
VOVI?13
,所以V0=VDS=0.5V,
ID=(1.5V-0.5V)/6K≈0.167mA,由VDS、ID可从特性曲线上求得VGG≈1.0V。 题1.3.11 图题1.3.11所示电路中,已知FET的IDSS=2mA,VP= -2V。 (3) 求ID=2mA时RS的取值范围; (4) 求RS=20kΩ时的ID值。
解: (1)当考虑VDS=1V时,Rs=0~9.5kΩ
(2)ID≈1mA
题1.3.12 在图题1.3.12(a)所示的放大电路中,设输入信号vS的波形和幅值如图中所示,JET的特性如图题1.3.12(b)所示,试用图解法分析: (5) 静态工作点:VGSQ、IDQ、VDSQ;
(6) 在同一个坐标下,画出vS、iD和vDS的波形,并在波形图上标明它们的幅值。
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