药明康德化学合成部2011年3月晋升测试题II

2011年3月药明康德化学合成部晋升测试（II ）试题

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药明康德化学合成部试题 2011年3月 一、 选择题（单选，每题1分，共15分） 1.1 请指出下面哪位教授获得了2010年的诺贝尔化学奖：（ ） A: Buchwald B: Jacobsen C: Negishi D. Nicolaou 1.2 请选择能完成下列转化的试剂： ( ) HO OH O OH A ：(COCl)2/DMSO/Et 3N B ：MnO 2, DCM C ：PDC, DMF D ：TPAP, NMO, DCM 1.3 SEM 是常用来保护氨基, 请指出下列哪种试剂不可以用来脱SEM 保护基（ ） A ：2N NaOH B ：TFA/DCM C ：CF 3SO 3H D ：TBAF 1.4 下列催化氢化催化剂中，最易产生燃烧危险的是 ( ) A ：Raney Ni B ：Pd(OH)2 C ：Pd(OAc)2 D ：Rh/Al 2O 3

1.5 指出下面四个化合物， 哪个与方框中的核磁谱图一致: ( )

姓名：___________

答

题

时

请

勿

超

越

此

虚

线

，谢

谢

！

工号：___________ 答

题

时

请

勿

超

越

此

虚

线

，谢

谢

！

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A

B

C

D

2

2

1.6 下面芳香卤代物发生胺解反应时，反应活性次序 ( )

B

A

D

C

N Cl

N F N N Br I

A. A>C>D>B

B. A>D>B>A

C. B>C>A>D

D. B>D>C>A

1.7 O

O

1

2

3O

4

在氢谱中这四个亚甲基的位移关系是 ( )

A 3>1>4>2

B 2>3>1>4

C 3>1>2>4

D 1>3>2>4

1.8 下面反应的产物是是：（ ）

N

OH 24

A

NH

O O

NH 2

B

C

D

1.9 下列说法正确的是: ( )

A : 还原胺化关键步骤是中间态亚胺的形成, 这时LC-MS 跟踪若反应不完全,需要

加热或补加一种原料或催化剂, 等原料反应完再加硼氢化物进行还原。 B : 含吡啶的分子在TFA 脱Boc, 反应后直接点板, 没有原料就可以处理。

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第 3 页 共 11 页 C. 4-氯吡啶的亲核取代活性比2-氯吡啶的活性高, 同样, 在Pd 催化的偶联反应中,

4-氯吡啶的活性也更高.

D. Pd 直接插入C-X 健的过程中, 反应的活性大小次序为: X=I>Br~OTf>Cl>F

1.10请判断下面反应主要产物：（ ）

A B C D

1.11在还原胺化反应中，反应液的pH 值一般控制在多少对反应有利 ( )

A: 3-5 B: 5-7 C: 8-10 D. 11-12

1.12在设置反应条件时，选择适当的碱非常重要，请从pka 值判断无法拔除下列质子的碱是： (

)

A ：n-BuLi

B ：NaH

C ：LDA

D ：MeONa 1.13下面化合物对酸最稳定的是 ( ) O O O O

O O O O A B C D

1.14组成有机化合物的原子许多有同位素，所以在质谱中会出现不同质量的同位素峰。有机物分子中同时含两个溴一个氟时，在质谱中会出现明显同位素峰的比例是 （ ）

A. 1: 2: 1;

B. 9: 6: 1;

C. 9: 3: 1; D . 3: 4: 1

答

题

时

请

勿

超

越

此

虚

线

，谢 谢

！

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第 4 页 共 11 页 1.15. 请选择能完成下列转化的试剂 （ ）

?N O HOOC N COOEt

OH

A ：LAH, THF, rt

B ：BH 3/THF,

heating C ：NaB(CN)H 3 D ：DIBAL-H

选择题答案：

1.1 ____ 1.2

____ 1.3 ____ 1.4 ____ 1.5 ____ 1.6 ____ 1.7

____ 1.8 ____ 1.9 ____ 1.10 ____ 1.11 ____ 1.12 ____ 1.13 ____ 1.14____ 1.15

____

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二：填空 （25分）

2.1 完成反应式 (填上条件/写出主要产物结构，注意立体化学）（20 分）

O

MeLi

2

O

O

TsOH

LDA BnBr

EtBr

H +

BnNH 2

O

OCCl Cl CO

DIEA

OMe

DDQ

CH 2Cl 2/H 2O

+

O

COOH

+

o

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EtOH

4

acetone

PH 7buffer r.t.12h

NHBn Br

NBn

SO 2Ph O

KH,Et 2

O

O

PhO 2S

TMS

TBAF

2.2 请写出三种保护氨基及脱保护的方法（注意类型不能重复）(3分)

R

NH 2

conditions?

R

NHPg*

conditions?R

NH 2

Protection

De-protection

1) _____ ________________________ 2) ____ _______________________ 3) _____ _________________

1) ________ __________________ 2) ________ _________________ 3) _________ ____________________

2.3 请写出下列有机化合物的结构 ( 2分)

DIBAL-H Dess-Martin Reagent

DCC

NMO

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第 7 页 共 11 页 三、谱图解析 （10分）

3.1. 请标明下列分子各类氢的化学位移范围和裂分情况（6分） N

O

H N O Si a d f

h i k b c j g'HO N

O N O Si

O H

H H H

H H H H H H H

H H H

H

H H H

H

H

H H g e

l

m n 裂分状况只要在括号里标明s, d, t, q, m, brs 即可：

Ha: ~ ppm ( ) Hb: ~ ppm ( )

Hc: ~ ppm ( ) Hd: ~ ppm ( )

He: ~ ppm ( ) Hf: ~ ppm ( )

Hg: ~ ppm ( ) Hh: ~ ppm ( )

Hi: ~ ppm ( ) Hj: ~ ppm ( )

Hk: ~ ppm ( ) Hl: ~ ppm ( )

Hm: ~ ppm ( ) Hn: ~ ppm ( )

请问两个甲基氢，Hg 和Hg’ 在核磁上表现为一个单峰还是两个单峰？回答：（

）

3.2已知某化合物分子式为C 5H 12O 2，请根据下面的1H-NMR 画出其结构

（4分） 6H

3H

2H 1H

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第 8 页 共 11 页 四、机理 （10分）

4.1 请写出Mitsunobu 的反应通式及机理 （5分）

4.2 请画出Swern oxidation 的机理，并解释为什么在做 Swern oxidation 要在低温下、

通风厨里操作，它的主要副产物是什么？（5 分） R OH R O DMSO,Et 3N

为什么在做 Swern oxidation 要在低温下、通风厨里操作，它的主要副产物是什么？

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第 9 页 共 11 页 五、路线设计（30分） 请设计下列合成路线, 注意每一步需要标明反应条件 (合成路线尽量不要超过八步反应; 前两题各7分, 后两题各8分）

N H N H O O Dexmethylphenidate by Novatis in 2002

答 题 时 请 勿 超 越 此 虚 线 ，谢 谢 ！

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O 2

OH HO

O

2

Organic Process Research &Development,2010,14,159-167

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第 11 页 共 11 页 六、英语 （10分）

请把下面词翻译成英语

1）重氮化合物

2）分子间反应

3）非对映异构体

4）氰化亚铜

5）亲电取代

6）电话会议

7）环加成反应

8）微波反应器

9）化学位移

10）芳香羧酸

本文来源：https://www.bwwdw.com/article/cbeq.html