2017年PVD镀膜材料行业分析报告

2017年PVD镀膜材料行业分析报告 2017年11月

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目录

1PVD镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜.........5 1.1溅射镀膜和溅射靶材....................5 1.2真空蒸发镀膜和蒸镀材料.....................10 2溅射靶材市场容量巨大，景气度不断增加..........14 2.1市场容量分析..............................14 2.2半导体行业：发展迅猛，需求旺盛...............15 2.3平板显示行业：稳定增长，前景广阔...............19 2.4太阳能行业：高速发展，井喷增长...............22 2.5光学元器件行业：多元驱动，稳步发展............24 3PVD镀膜行业竞争格局：美、日垄断，中国崛起.........27 3.1溅射靶材被美、日、德跨国企业垄断...............27 3.2大陆OLED产线如雨后春笋，蒸镀设备一机难求......29 3.3政策利好国内厂商，有望松动垄断格局...........31 4产业链自上而下金字塔分布，产业特征强区域性......33 4.1溅射靶材产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布.............................................33 4.2溅射靶材上游产业集中度高，下游产业市场扩容....34 4.3产业特征：弱周期性，强区域性...............36 5投资策略......................................39 6风险提示......................................40

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图目录

图1：溅射镀膜工作原理示意图...............6 图2：溅射靶材................................7 图3：溅射靶材发展历程..............................8 图4：溅射靶材产业链.......................8 图5：溅射靶材工艺流程.................10 图6：真空蒸发镀膜工作原理示意图...............11 图7：真空镀膜材料.........................12 图8：真空镀膜材料加工工艺流程...................13 图9：溅射镀膜和蒸发镀膜对比.......................14 图10：2016年全球溅射靶材市场容量（亿美元）..........15 图11：全球高纯溅射靶材市场规模预测（亿美元）........15 图12：全球半导体2008-2016销售额...................17 图13：中国半导体2009-2017销售额及预测........17 图14：2011-2017全球半导体用溅射靶材市场规模及预测............................................19 图15：2010-2016中国半导体用溅射靶材市场规模及预测........................................19 图16：平板显示行业镀膜工艺流程............20 图17：2013-2017全球触控屏出货量及预测...........22 图18：2013-2017中国触控屏出货量及预测...........22 图19：2009-2016全球累积光伏装机量...............24

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图20：2009-2016中国累积光伏装机量...............24 图21：2014-2019中国视频监控设备市场规模及预测...26 图22：2015-2020全球车载摄像头市场规模预测......26 图23：OLED制造工艺流程.....................30 图24：ELVESSOLED大规模生产系统...............30 图25：SunicOLED蒸镀设备...............32 图26：高纯溅射靶材产业链各环节参与企业数量呈金字塔分布..............................................36 图27：溅射靶材生产企业主要集中在美国、日本.........39

表目录

表1：溅射靶材分类...........................7 表2：蒸镀材料种类...........................12 表3：全球太阳能电池用溅射靶材市场规模......24 表4：各品牌手机2015年和2016年的市场份额和增长率情况.............................................27 表5：国外主要溅射靶材厂商...............28 表6：国内OLED产线布局统计...............29 表7：中小尺寸OLED蒸镀设备主要厂商...............31 表8：国家大力支持溅射靶材相关政策...............33 表9：国内主要PVD镀膜材料厂商...............34 表10：溅射靶材产业链各环节主要公司...............37 表11：重点关注公司盈利预测与评级...............40

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1PVD镀膜两大主流：溅射镀膜和真空蒸发镀膜 PVD（PhysicalVaporDeposition）技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展，PVD镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域，溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。

1.1溅射镀膜和溅射靶材

溅射（Sputtering）镀膜技术利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面而形成薄膜材料。被轰击的固体原料是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。靶坯属于溅射靶材的核心部分，是高速离子束流轰击的目标材料。靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。由于高纯度金属强度较低，因此溅射靶材需要在高电压、高真空

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的机台环境内完成溅射过程。超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导电、导热性能。

图1：溅射镀膜工作原理示意图

按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。

表1：溅射靶材分类

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的机台环境内完成溅射过程。超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导电、导热性能。

图1：溅射镀膜工作原理示意图

按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。

表1：溅射靶材分类

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