电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作用

不错的论文

第５８卷第１２期２００７年１２月

化

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电压施加方式在阳极氧化钛薄膜

形成过程中的作用

巩运兰１，任云霞１，杨

云１，白正晨１，郭鹤桐２

（１天津商业大学生物技术与食品科学学院，天津３００１３４；２天津大学化工学院，天津３０００７２）

摘要：采用阳极氧化的方法，通过改变电压的施加方式制备了具有不同形貌的氧化钛薄膜。使用扫描电子显微镜考察了氧化钛薄膜的形貌，结合实验现象探讨了阳极氧化钛薄膜纳米孔的形成机制。研究结果表明，采用一步施加电压和连续施加电压的方法，氧化钛薄膜纳米孔的形成过程由电压、阻挡层的厚度决定；采用两步施加电压的方法，氧化钛薄膜纳米孑Ｌ的形成过程由放电电压、阻挡层的厚度和阻挡层／电解液的边界条件协同控制。在相同工艺条件下，采用两步施加电压法能够扩展阳极氧化钛薄膜纳米孔孔径和孔密度的范围。关键词：电压；阳极氧化；氧化钛薄膜；纳米孑Ｌ；两步施加电压法中图分类号：ＴＱ

１５３．６；ＴＧ１４６

文献标识码：Ａ文章编号：０４３８—１１５７（２００７）１２—３１８５一０６

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引言

纳米ＴｉＯ：薄膜材料克服了Ｔｉｏｚ粉体易失活、

扩展了Ｔｉ０。光催化材料的应用领域，更具有实际应用价值。纳米ＴｉＯ。薄膜的制备方法很多，如溶胶一凝胶法、反应溅射、化学气相沉积方法ｎ２１。这些方法普遍存在膜基结合力差、制备成本高、制备

易团聚、活性成分难以回收再利用等缺点，极大地

２００７一０６一０１收到初稿，２００７一０８—２２收到修改稿。联系人及第一作者：巩运兰（１９６３一），女，副教授。基金项目：天津市自然科学基金项目（０６ＹＦＪＭＪＣｌｌ４００）。

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ｄａｔｅ：２００７一０６一０１．

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万方数据　

不错的论文

化工条件苛刻、所需设备复杂、反应不易控制等缺点。阳极氧化作为一种多孔膜的制备方法，具有设备简单、操作方便、工艺参数容易控制、环境友好等特点而得到广泛的应用口。７］。目前制备阳极氧化钛薄膜普遍采用微弧阳极氧化法，如Ｗｕ等Ⅲ在ＮａｚＣ０３和Ｎａ２Ｓｉ。电解液中、２３０？４１０Ｖ的电压下，制备了孔径为２００ｎｍ～４弘ｍ的氧化钛薄膜。黄平等凹］在磷酸盐和钙盐的电解液中，采用２５０～

４５０

Ｖ的电压，制备出孔径大于５００ｎｍ的氧化钛

薄膜。由于电压是影响纳米孔孔径的主要因素，在较高的电压下形成的孔径一般都大于２００ｎｍ，分布范围较窄，不利于氧化钛薄膜的推广和应用。另一氧化法是在电解液中添加Ｃｒ：Ｏ。、ＨＦ等物质，提高电解液对氧化钛的溶解能力，以增加形成纳米孑Ｌ的可能性。陶海军等ｕ们以纯钛为阳极，在３～２０Ｖ的电压下氧化１０ｍｉｎ，制备出了孑Ｌ径为１０～４５ｎｍ的氧化钛薄膜。这种方法虽然能在较低的电压下制备孔径低于１００ｎｍ的氧化钛薄膜，但是Ｃｒ：０。是国家禁止使用的试剂，而ＨＦ的强腐蚀性也不利于这种工艺的推广使用。使用常规的、无污染的试剂，制备具有不同级别纳米孑Ｌ的氧化钛薄膜应是电化学工作者的一个奋斗目标，为了实现这个目标就要弄清楚氧化钛纳米孑Ｌ的形成机制及影响因素。阳极氧化制备Ｔｉ０２多孔膜足一种比较新的方法，对具体的制备工艺特别是多孔膜的成孔机理研究还处于摸索阶段，国内外相关研究的报道比较少。

本实验是以硫酸为电解液，通过改变电压的施加方式，制备了具有不同形貌的氧化钛薄膜，通过分析电压在纳米孔形成过程中的作用，探讨纳米孔的形成机制，以便在更宽的孑Ｌ径范围内制备氧化钛薄膜。１

实验部分

１．１

Ｔｉ０２薄膜的制备

采用恒压直流电解的方法对钛试样进行阳极氧

化处理。阳极为厚Ｏ．１ｍｍ、纯度９９．９％的钛片，反应区面积１ｃｍ×１ｃｍ。阴极为钛基镀Ｐｔ网。首先将试样预处理以除去钛试样表面的油层及自然氧化钛膜嘲。将预处理后的试样立即放入ｏ．５ｍ０１．Ｌ－１硫酸电解液中，电解液的温度恒定为２５℃，在一定的电压施加方式下对其进行阳极氧化处理。文中所指电压均为阴、阳两极之间的电压。实验中使用的化学试剂均为分析纯。

万　

方数据学报第５８卷

１．２

Ｔｉ０２薄膜形貌的观测

将阳极氧化后的钛阳极分别用自来水、去离子

水冲洗干净，吹风机吹干，使用ＪＥＯＬＪｓＭ一６７００Ｆ型扫描电子显微镜（ＳＥＭ）观察氧化钛薄膜表面及断面的形貌。２

实验结果

为了考察电压在钛阳极氧化过程中的作用，实

验采用了３种电压施加方式制备氧化钛薄膜。２．１一步施加电压法

一步施加电压法是将经过预处理的钛试样作为

图１

一步施加电压法制备的Ｔｉ０。薄膜形貌

Ｆｉｇ．１

ＳｕｒｆａｃｅｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙｏｆＴｉ０２ｆｉｌｍ

ｆｏｒｍｅｄｉｎｏｎｅ—ｓｔｅｐ

ｖ０１ｔａｇｅ

不错的论文

第１２期巩运兰等：电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作用

３】８７

阳极，直接施加一定的电压进行恒压直流阳极氧化的方法。氧化过程中电流密度经过了急剧上升一快速下降一逐渐稳定的过程。

图１是在不同电压下进行恒压直流阳极氧化５ｍｉｎ后的ＳＥＭ照片。从图中可以看到，在６０Ｖ电压下制备的Ｔｉ０。薄膜不能形成纳米孔，当电压升高到８０Ｖ时有极少量不通透的纳米孔形成，在１００Ｖ时这种不通透纳米级微孔的数量明显增多，当电压升高到１２０Ｖ时，形成了具有纳米级微孔的Ｔｉ０。薄膜，纳米孔的平均孔径约为１１０ｎｍ，孔密度约为８×１０８个／ｃｍ２。但纳米孔的分布非常不均匀，孔径也不均一，并且在每个纳米孔的周围都存在一圈突起，使得每个纳米孔好像是一个已经爆发的火山口。

２．２连续增加电压法

图２是采用连续增加电压法制备的ＴｉＯ：薄膜ＳＥＭ照片。制备方法为：首先施加６０Ｖ电压，电流密度急剧增加然后快速下降，当电流密度下降到最低点时增加１０Ｖ电压。增大电压后电流密度再次增大然后下降，当电流密度再次到达最低点时，电压再增加１０Ｖ，依此类推，一直增加到１２０

Ｖ。

在１２０Ｖ电压下再氧化５ｍｉｎ。从照片上可以观察到，采用逐渐升高电压方法制备出的Ｔｉｏｚ薄膜的表面，有许多即将形成纳米孔的胚胎，但没有形成真正的纳米孔。

图２连续施加电压法制备的Ｔｉ晓薄膜形貌

Ｆｉｇ．２

Ｓｕｒｆａｃｅ

ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙｏｆ

Ｔｉｏｚ

ｆｉｌｍ

ｆｏｒｍｅｄｉｎｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓｖｏｌｔａｇｅ

２．３两步施加电压法

两步施加电压法是首先施加一个初始低电压（以下称作“初始电压”），电流密度经历一次快速上升及急剧下降的过程。当电流密度下降到最低点

万　

方数据时，再施加一个高电压（以下称作“放电电压”），电流密度再一次经历快速上升及急剧下降的过程。

图３是在１２０Ｖ放电电压、不同的初始电压下制备的Ｔｉｏ：薄膜ＳＥＭ照片，由图可见，ＴｉＯ：薄膜的形貌与图１（ｄ）相似，纳米孔周围也有一圈

图３两步施加电压法制备的Ｔｉ０２薄膜形貌

Ｆｉｇ．３

Ｓｕｒｆａｃｅ

ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙｏｆＴｉ０２ｆｉｌｍ

ｆｏｒｍｅｄｉｎｔｗｏ－ｓｔｅｐ

ｖｏｌｔａｇｅ

不错的论文

３Ｊ８８

化工突起，但纳米孑Ｌ的形状更趋于圆形，孔径更加均一，纳米孔的分布也更加均匀。３

讨论

在上述３种制备阳极氧化钛薄膜的方法中，虽然采用了不同施加电压方式，但是氧化钛薄膜的形成却经历了相同的过程。即首先电解质溶液中的水发生电解在阳极生成原子氧，一部分新生原子氧与钛基材发生反应，在钛基材表面生成氧化钛阻挡层，阻挡层的形成导致电流密度急剧下降ｎ川。电流密度达到最低点时阻挡层的厚度达到最大，使用ＳＥＭ观测此时阻挡层的厚度。如果忽略电解液及阴极电压降ｎ２｜，用电压除以阻挡层的厚度可以得到阻挡层内的电场强度，结果列于表１。结果表明，随着电压的增加阻挡层的厚度增加，阻挡层内的电场强度增大。实验发现，随着电压的增加阻挡层的颜色分别为：紫色、浅蓝、金黄、紫红、灰褐，与文献［１３］的结果一致。

表ｌ

阻挡层厚度及电场强度

Ｔａｂｋｌ

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／Ｖ／ｎｍ／Ｖ．ｍ—ｌ

阻挡层形成以后，阻挡层承受的电场强度急剧增大。在电场的作用下一方面电解液对阻挡层外表面的场致溶解能力增大；另一方面在阻挡层／金属钛的界面处，金属钛失去电子的速度增加。当电场强度小于９．８×１０７Ｖ ｍ－１时，只能产生由于场致溶解而形成的不通透纳米孔［图１（ａ）～（ｃ）］。当电场强度增大到１．４×１０８Ｖ ｍ－１时，金属钛失去电子的速度急剧增加，大量的Ｔｉ４＋在电场的作用下迅速穿过阻挡层，形成雪崩，与文献［１４］的结果相吻合。到达阻挡层外表面的Ｔｉ４＋与０卜产生强烈结合产生极高温度，使电解质等物质在基体表面进行熔覆、烧结，形成纳米孔周围的堆积［１胡［图１（ｄ）］。

阻挡层的厚度随电压的升高而增大（表１），在施加１２０Ｖ电压下形成的较厚的阻挡层将增加雪崩的难度，Ｔｉ４＋的快速积累及迅速激穿会首先在阻

万　

方数据学报

第５８卷

挡层的薄弱环节进行，从而使形成的纳米级微孑Ｌ的形状不规则，分布也不均匀，纳米孔周围的堆积使氧化膜表面产生明显的凹凸不平［图１（ｄ）］。

在相同电压下，减小阻挡层厚度一方面可以提高电场强度，另一方面可以降低雪崩难度。

连续施加电压就是基于上述考虑所采取的方法。虽然是在一个比较小的初始电压（６０Ｖ）下开始进行氧化，但是逐渐升高的电压始终没有产生金属钛的快速失去电子及大量Ｔｉ４＋迅速穿过阻挡层的瞬间，即使将电压同样增加到１２０Ｖ，也不能形成雪崩击穿阻挡层形成通透的纳米孔，只有由于场致溶解形成的不通透的纳米孑Ｌ，从而不存在由于熔覆、烧结而形成纳米孔周围的堆积（图２）。

两步施加电压法是既能形成较薄的阻挡层，又能形成雪崩的比较有效的施加电压法。表２是在

１２０

Ｖ放电电压、不同初始电压下制备的ＴｉＯ：薄

膜的孔径、孔密度及阻挡层内的电场强度。

表２纳米孔的孔径、孔密度及电场强度

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结果显示，采用两步施加电压法，阻挡层内的

电场强度均大于１．４×１０８Ｖ ｍ～，因此在所采用的电压范围内都能够形成纳米孔。但是在相同的放电电压下，随着初始电压的增加纳米孔的孔径和孔密度出现了无规律的变化。图４是在不同初始电压下电流密度达到最低点时，即阻挡层刚刚形成时的表面形貌。从图４可以看出，氧化钛薄膜表面的粗糙度与初始电压有关，初始电压越高阻挡层的粗糙度越大。在２０Ｖ电压下形成的阻挡层表面非常光滑平整，虽然阻挡层的厚度最小电场强度最大，但是由于阻挡层厚度的分布非常均匀，在施加放电电压时，不能在某些缺陷处首先放电，形成雪崩，在阻挡层／金属基体的界面处进行了能量的平均分配，产生了能量的耗散，造成多点放电，因此形成的纳米孔的孔密度比较大而孔径较小（表２）。当初始电压升高到４０Ｖ时，阻挡层的表面开始出现少量的微裂纹，微裂纹的产生势必造成阻挡层厚度分布

不错的论文

第１２期

巩运兰等：电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作用

３ｊ８９

图４不同初始电压下阻挡层的表面形貌

Ｆｉｇ．４

Ｓｕｒｆａｃｅ

ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙｏｆＴｉ０２ｆｉｌｍｆｏｒｍｅｄ

ｉｎｄｉｆｆｅｒｅｎｔｆｉｒｓｔｖｏｌｔａｇｅｓ

万　

方数据不均匀，当施加放电电压时，在这些裂纹处首先被击穿，因此形成的纳米孔的孔径明显大于２０Ｖ时的孔径，由于优先在微裂纹处放电及电场强度的降低，孔密度明显降低；当初始电压升高到６０Ｖ时，阻挡层的表面微裂纹的数目明显增加，造成孔密度较４０Ｖ时有所提高，但是电场强度的减小又使孑Ｌ径明显减小；当初始电压达到８０Ｖ时，阻挡层的表面已经出现明显的凹凸不平，这些凹凸不平导致阻挡层的厚度十分不均匀，也在一定程度上增加了电解液对阻挡层外表面的场致溶解能力，在电场强度变化不大的情况下，造成纳米孑Ｌ的孔径和孑Ｌ密度都有所增大。因此在两步施加电压法中，纳米孔的形成不但取决于阻挡层的厚度，在很大程度上还取决于阻挡层／电解液界面的边界条件。

综上所述，由于采用了两步施加电压法，使得阻挡层／电解液界面的边界条件成为控制纳米孔孔径及孔密度的一个参数。在相同的终态电压下，采用一步施加电压法，只能制备出具有一种规格纳米孔的氧化钛薄膜。如果采用两步施加电压法，可以通过改变初始电压，即通过改变阻挡层／电解液界面的边界条件制备出具有若干规格纳米孑Ｌ的氧化钛薄膜。因此采用两步施加电压法可以在更宽的尺度范围内制备具有纳米级微孑Ｌ的氧化钛薄膜。４

结论

（１）终态电压相同时，由于电压的施加方式不同，所制备出的ＴｉＯ。薄膜的形貌存在着较大的差异。

（２）采用两步施加电压法制备出的阳极氧化钛薄膜较其他施加电压的方法孔径分布更加均匀，孔密度更大，孔型更加趋于圆形。

（３）在相同的放电电压下，通过改变初始电压可以制备出具有不同孔径和孔密度的ＴｉＯ：薄膜。

（４）Ｔｉｏｚ薄膜纳米孔的形成过程由电压、阻挡层的厚度即阻挡层内的电场强度决定的。采用两步施加电压法，阻挡层／电解液的边界条件也成为影响纳米孔形成的一个参数。由于增加了控制纳米孔形成的影响因素，增加了可以改变的工艺参数，进而可以在更大范围内制备出具有不同孔径及不同孔密度的氧化钛薄膜。

Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅｓ［１］

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不错的论文

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［２］

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ｃｈａｎｇｙｕａｎ（张长远），ＨｅＢｉｎ（何斌），ｚｈａｎｇ

Ｊｉｎｌｏｎｇ（张金龙）．

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［３］

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２００４，２０（２）：１９９—２０１

［７］Ｇｏｎｇ

Ｙｕｎｌａｎ（巩运兰），ＷａｎｇＷｅｉ（王为），ＷａｎｇＨｕｉ

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Ｅｎｇｉｔｌｅｅｒ￡ｔｌｇ（Ｃｈ￡ｍ）

（化工学报），２００１，５２（１２）：

１１２０—１１２２

［８］

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方数据学报

第５８卷

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２００５。５９：

３７０—３７５

［９］

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国有色金属学报），２００４，１４（９）ｌ

１５６４—１５６８

［１０］

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［１１］

Ｇｏｎｇ

Ｙｕｎｌａｎ（巩运兰），ＷａｎｇＷｅｉ（王为），ＧａｏＪｕｎｌｌ

（高俊丽），以“．Ｔｈｅｅｆｆｅｃｔｏｆｃｈｒｏｍｉｃａｃｉｄ

ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎｏｎ

ｆｏｒｍａｔｉｏｎ

ｐｒｏｃｅｓｓ

ｏｆｔｈｅ

ｂａｒ“ｅｒ１ａｙｅｒｏｆ

ａｎｏｄｉｃ

ｐｏｒｏｕｓ

ａｌｕｍｉｎａ

ｆｉｌｍ．Ｅｚ盯￡ｒ０户缸ｆｉｎｇ＆Ｐｏｚｚ“￡ｉｏ珂（１０ｎ￡ｒｏｚ（电镀与

环保），１９９９，１９（２）：２０一２２

［１２］

Ｇｏｎｇ

Ｙｕｎｌａｎ（巩运兰）。ＷａｎｇＷｅｉ（王为），ｗａｎｇｈｕｉ

（王慧），ＧｕｏＨｅｔｏｎｇ（郭鹤桐）．Ｅｆｆｅｃｔｏｆｔｈｅｄｉｓｌｏｃａｔｉｏｎ

ｏｎ

ｔｈｅ

ｎａｎｏ－ｐｏｒｅａｒｒａｙ

ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ

ｏｆａｎｏｄｉｃａｌｕｍｉｎａｆｉｌｍｓ．

ｃ＾ｉＨＦ＂．，ｏ“ｒ触ｚｏ，Ａ户ｐ￡ｉｇｄｃ＾Ｐｍ纽叫（应用化学），

２００２．１９（１１）：

１１０３—１１０５

［１３］

ｗａｎｇｗｅｉ（王炜），ＴａｏＪｉｅ（陶杰），ｚｈａｎｇｗｅｉｗｅｉ（章伟伟），Ｔａｏ

Ｈａｉｊｕｎ（陶海军），ｗａｎｇ

Ｌｉｎｇ（王玲）．

Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ

ｏｆ

Ｔｉ０２

ｐｏｒｏｕｓ

ｆｉｌｍ

ｂｙ

ａｎｏｄｉｃ

ｏｘｉｄａｔｉｏｎ．

ｎ￡ｎｎ缸ｍｈｄ“ｓｆ删Ｐｒｏｇ＂ｓｓ（钛工业进展），２００５，２２

（２）：３０一３３

［１４］

Ｚｈａｏ

Ｓｈｕｐｉｎｇ（赵树萍），ＬｎＳｈｕａｎｇｋｕｎ（吕双坤），Ｈａｏ

ｗｅｎｊｉｅ（郝文杰），“以．ＴｉｔａｎｉｕｍＡｌｌｏｙａｎｄＳｕｒｆａｃｅＴｒａｎｓａｃｔ（钛合金及其表面处理）．Ｈａｒｂｉｎ：Ｈａｒｂｉｎ

Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ

ｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＰｒｅｓｓ，２００３：

１８３—１９６

［１５］Ｊｉａｎｇ

ｚｈａｏｈｕａ（姜兆华），ｗｕＸｉａｏｈｏｎｇ（吴晓宏），ｗａｎｇ

Ｆｕｐｉｎｇ（王福平），Ｘｉｎｓｈｉｇａｎｇ（辛世刚）．ｃｅｒａｍｉｃｆｉｌｍ

ｐｍｄｕｃｅｄｂｙｍｉｃｒｏ＿ｐｌａｓｍａｏｘｉｄａｔｉｏｎ

ｏｆ

Ｔｉ

ａ１１０ｙｉｎＮａ３Ｐ０４一

Ｎａ２

Ｂ４０７

ｓｏｌｕｔｉｏｎ．Ｃ＾ｉｎＦ５Ｐ．，ｏ“ｒ棚ｚｏ，Ｒ口卵ＭＦ缸如（稀有

金属），２００１。２５（２）：１５１—１５３

不错的论文

电压施加方式在阳极氧化钛薄膜形成过程中的作用

作者：作者单位：

巩运兰， 任云霞， 杨云， 白正晨， 郭鹤桐， GONG Yunlan， REN Yunxia， YANG Yun， BAI Zhengchen， GUO Hetong

巩运兰,任云霞,杨云,白正晨,GONG Yunlan,REN Yunxia,YANG Yun,BAI Zhengchen(天津商业大学生物技术与食品科学学院,天津,300134)， 郭鹤桐,GUO Hetong(天津大学化工学院,天津,300072)

化工学报

JOURNAL OF CHEMICAL INDUSTRY AND ENGINEERING(CHINA)2007,58(12)2次

刊名：英文刊名：年，卷(期)：被引用次数：

参考文献(15条)

1.郭洪蕾;顾德恩;杨邦朝 Progress in the study on the photocatalytic active TiO2 thin film[期刊论文]-电子元件与材料 2006(03)

2.张长远;何斌;张金龙 Application and research advanced of functional titanium dioxide thin film[期刊论文]-感光科学与光化学 2004(01)

3.黄平;徐可为;憨勇 Microstructures and mechanical properties of titania films by plasma electrolyteoxidation under different applied voltages[期刊论文]-中国有色金属学报 2004(09)

4.Wu Hanhua;Lu Xianyi;Long Beihong;Wang Xiuqin Wang Jianbo Jin Zengsun The effects of cathodic andanodic voltages on the characteristics of porous nanocrystalline titania coatings fabricated bymicroarc oxidation[外文期刊] 2005

5.姜兆华;吴晓宏;王福平;辛世刚 Ceramic film produced by micro-plasma oxidation of Ti alloy inNa3PO4Na2B4O7 solution[期刊论文]-稀有金属 2001(02)6.赵树萍;吕双坤;郝文杰 钛合金及其表面处理 2003

7.王炜;陶杰;章伟伟;陶海军 王玲 Preparation of TiO2 porous film by anodic oxidation[期刊论文]-钛工业进展 2005(02)

8.巩运兰;王为;王慧;郭鹤桐 Effect of the dislocation on the nano-pore array structure of anodicalumina films[期刊论文]-应用化学 2002(11)

9.巩运兰;王为;高俊丽 The effect of chromic acid concentration on formation process of the barrierlayer of anodic porous alumina film 1999(02)

10.陶海军;陶杰;王玲;王炜 Fabrication of nano-porous TiO2 films on pure titanium and its alloy[期刊论文]-南京航空航天大学学报 2005(05)

11.巩运兰;王为;王慧;刘学雷 郭鹤桐 Effect of composition on A1 matrix nano-pore array structure ofanodic alumina films[期刊论文]-化工学报 2001(12)

12.巩运兰;王为;王慧;郭鹤桐 The analysis of self-organizing process of anodic alumina films withnano-pore array structure[期刊论文]-物理化学学报 2004(02)

13.Mehmood M;Rauf A;Rasheed M A;Saeed S Akhter J I Ahmad J Aslam M Preparation of transparent anodicalumina with ordered nanochannels by through-thickness anodic oxidation of aluminum sheet[外文期刊]2007(2-3)

14.Chang Jengkuei;Liao Chimin;Chen Chihhsiung;Tsai Wenta Material characteristics and capacitiveproperties of aluminum anodic oxides formed in various electrolytes[外文期刊] 2004(11)

不错的论文

15.Li Ang;Pan Shusheng;Dou Xincun;Zhu Yonggang Huang Xiaohu Yang Youwen Li Guanghai Zhang Lide Direct electrodeposition of ZnO nanotube arrays in anodic alumina membranes 2007(20)

引证文献(2条)

1.巩运兰.李菲晖.白正晨.杨云 两步电压施加法对钛阳极氧化膜晶体结构及尺寸的影响[期刊论文]-材料保护2010(9)

2.巩运兰.杨云.王为.白正晨.任云霞 阳极TiO2薄膜两步施加电压法制备参数对其形貌的影响[期刊论文]-材料保护 2009(8)

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